TOP > 国内特許検索 > 基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置

基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置

国内特許コード P03A003233
整理番号 U2001P234
掲載日 2003年12月22日
出願番号 特願2002-061361
公開番号 特開2003-253451
登録番号 特許第3837496号
出願日 平成14年3月7日(2002.3.7)
公開日 平成15年9月10日(2003.9.10)
登録日 平成18年8月11日(2006.8.11)
発明者
  • 斎藤 秀俊
出願人
  • 国立大学法人長岡技術科学大学
発明の名称 基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法及び該方法に使用する装置
発明の概要 大気開放型CVD法において、基材表面に酸化物あるいは水酸化物膜を形成する化学反応を促進する方法、特に基材温度200℃以下で酸化物あるいは水酸化物膜を効率良く形成する方法、及び該方法に使用する装置を提供する。気化させた原料をキャリヤーガスとともに大気開放下に加熱された基材表面に吹付けて基材表面に酸化物又は水酸化物膜を堆積する大気開放型CVD法において、基材をとりまく反応空間に沿面放電プラズマが生じるように電界を印加することによって、基材表面に被膜を形成する反応を促進する。
従来技術、競合技術の概要
気化させた原料をキャリヤーガスとともに大気開放下に加熱された基材表面に吹付けて基材表面に酸化物膜を堆積する大気開放型化学気相折出(CVD)法は、密閉された反応容器内で減圧下に反応を行なう従来のCVD法に比較して、板状体やパイプ等の長尺物からなる基材を連続的に加工することができること、及び原料の気化温度や供給量、キャリヤーガスの流量、基材温度等を調整することによって、基材表面に形成する酸化物膜の膜厚や結晶構造等をある程度制御することができることから、注目を集めている。
この大気開放型CVD法においては、基材表面に堆積する被膜の構造を用途に合わせて制御することや、高速で基材表面に被膜を形成することが求められている。
産業上の利用分野
本発明は、大気開放型化学気相折出法により各種基材表面に酸化物又は水酸化物膜を形成する際に、基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法する及び該方法に使用する装置に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 気化させた原料をキャリヤーガスとともに大気開放下に加熱された基材表面に吹付けて基材表面に酸化物又は水酸化物膜を堆積する大気開放型化学気相析出法において、一対の金属電極間に誘電体層を介在させた電界印加手段を使用して基材をとりまく反応空間に沿面放電プラズマが生じるように電界を印加するとともに、少なくとも一方の電極に隙間を設け、該隙間から気化させた原料及びキャリヤーガスを基材表面に供給することを特徴とする基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項2】 少なくとも一方の電極が誘電体で覆われた一対の金属電極間に基材を配置し、電界を印加することを特徴とする請求項1に記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項3】 一対の金属電極間に誘電体層を介在させた電界印加手段と基材を対向させて配置し、電界を印加することを特徴とする請求項1に記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項4】 少なくとも一方の電極を金属を内包する誘電体により構成したことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項5】 電界の強度が0.1~100000V/mmであることを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項6】 基材が金属、金属酸化物、ガラス、陶磁器、セラミックス、プラスチック又は紙から選択されたものであることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法。
【請求項7】 キャリヤーガス供給手段、原料気化器、気化した原料の吹付手段及び基材の加熱手段を具備する大気開放型化学気相析出装置において、一対の金属電極間に誘電体層を介在させた電界印加手段を有するとともに、少なくとも一方の電極に隙間を設け、該隙間から気化させた原料及びキャリヤーガスを基材表面に供給するようにしたことを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の基材表面に被膜を形成する反応を促進する方法に使用する装置。
【請求項8】 少なくとも一方の電極を金属を内包する誘電体により構成したことを特徴とする請求項7に記載の装置。
【請求項9】 基材の加熱手段と電界印加手段が電気的に絶縁されていることを特徴とする請求項7又は8に記載の装置。
【請求項10】 少なくとも気化した原料の吹付手段、基材の加熱手段及び電極を覆う防護チャンバーを設け、防護チャンバーの扉の開閉と電極のスイッチの開閉を連動させたことを特徴とする請求項7~9のいずれかに記載の装置。
産業区分
  • 表面処理
  • 処理操作
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
上記の特許・技術に関心のある方は、下記問い合わせ先にご相談下さい。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close