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圃場地下水位の制御法

国内特許コード P04A005009
掲載日 2004年12月7日
出願番号 特願2000-109324
公開番号 特開2001-295252
登録番号 特許第3424006号
出願日 平成12年4月11日(2000.4.11)
公開日 平成13年10月26日(2001.10.26)
登録日 平成15年5月2日(2003.5.2)
発明者
  • 中山 煕之
出願人
  • 独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構
発明の名称 圃場地下水位の制御法
発明の概要 圃場の境界部の地下に、畦畔に沿って地面に垂直に幅85㎝・厚さ0.2㎜の軟質合成樹脂製の遮水幕を巡らせ、排水路近傍の暗渠管の先端部位に上下に複数個の溢水口を配置し、地上に突出する排水円筒操作棒により上下調節可能で、かつ下端が暗渠管の横栓を兼ねている排水円筒と、この排水円筒い沿って地上に突出する被覆円筒操作棒により上下調節可能の溢水口被覆円筒とで構成された排出水位調節水甲を設けて、圃場の地下水位を制御するようにした圃場地下水位制御法である。
従来技術、競合技術の概要 圃場に暗渠排水管を一定間隔・一定深度に埋設し、暗渠管の先端部位に設けた水甲(止水栓)の開閉によって排水及び湛水(水田の場合)の切り替えを行っていた。
産業上の利用分野 農作物を栽培する圃場の地下水位を、予め設定した水位に、かつ圃場全体にわたって水平になるように制御する圃場地下水位制御法
特許請求の範囲 【請求項1】 圃場(1)の境界部の地下に、畦畔(3)に沿って地面に垂直に軟質合成樹脂製の遮水幕(3)を巡らせ、排水路(6)近傍の暗渠管(4)の先端部位に、上下に複数個の溢水口(7)を配置し、地上に突出する排水円筒操作棒(8a)により上下調節可能で、かつ下端が暗渠管(4)の横栓を兼ねている排水円筒(8)と、この排水円筒(8)に沿って地上に突出する被覆円筒操作棒(9a)により上下調節可能の溢水口被覆円筒(9)とで構成された排出水位調節水甲(5)を設けて、圃場(1)の地下水位を制御するようにしたことを特徴とする圃場地下水位制御法。
産業区分
  • 土工
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
画像

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出願権利状態 権利存続中


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