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金属間化合物融液を用いた高融点シリサイド結晶成長法 コモンズ

国内特許コード P04A005622
整理番号 ShIP‐Y905
掲載日 2005年1月18日
出願番号 特願平11-248700
公開番号 特開2001-072500
登録番号 特許第3079265号
出願日 平成11年9月2日(1999.9.2)
公開日 平成13年3月21日(2001.3.21)
登録日 平成12年6月23日(2000.6.23)
発明者
  • 野瀬 康男
  • 立岡 浩一
  • 桑原 弘
出願人
  • 学校法人静岡大学
発明の名称 金属間化合物融液を用いた高融点シリサイド結晶成長法 コモンズ
発明の概要 【課題】 高性能熱電デバイスに好適に用い得る大型・高品質のシリサイドバルク結晶、特にβ-FeSi2 結晶を液相から成長する方法を提供する。
【解決手段】 シリコン基板と高温に保持した金属間化合物融液とを反応させてシリサイド結晶を得る高融点シリサイド結晶成長法である。金属間化合物として鉄アンチモン化合物を用いて、大型で高品質のβ-FeSi2 結晶を生成することができる。
従来技術、競合技術の概要 シリサイド材料は熱電変換効率が高く、熱電デバイスへの応用が期待される材料として知られている。しかしながらシリサイドは融点が高く、しかも異なる組成比、異なる結晶構造を有する多くの相が存在するので、デバイスへの応用に必要な大きさを有するとともに優れた品質の結晶を作製することが困難である。現在まで、シリサイド結晶は一般に焼結法により作製されているものの、この方法で作製された結晶は品質が劣っており、デバイスの性能劣化を引き起こしている。最近では、化学輸送法により結晶品質の良好な結晶が作製されているが、熱電デバイス応用に必要な大きさを有する結晶を作製することができない。このように、熱電デバイスに応用可能な大型で高品質のシリサイド結晶を作製する方法は、未だ得られていないのが現状である。
産業上の利用分野 本発明は、シリサイド結晶成長法に係り、特に大型・高品質のシリサイドバルク結晶を作製する方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 シリコン基板と高温に保持した金属間化合物融液とを反応させてシリサイド結晶を得る高融点シリサイド結晶成長法。
【請求項2】 前記金属間化合物は、シリサイドを構成する金属と、単体で蒸気圧が高いまたは表面偏析しやすい元素とを含む化合物である請求項1に記載の高融点シリサイド結晶成長法。
【請求項3】 前記金属間化合物は鉄アンチモン化合物であり、前記シリサイドはβ-FeSi2 である請求項1または2に記載の高融点シリサイド結晶成長法。
産業区分
  • 合金
  • 固体素子
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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