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ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法 実績あり

国内特許コード P990001859
整理番号 A051P03
掲載日 2000年6月1日
出願番号 特願平08-351641
公開番号 特開平10-182825
登録番号 特許第3160214号
出願日 平成8年12月27日(1996.12.27)
公開日 平成10年7月7日(1998.7.7)
登録日 平成13年2月16日(2001.2.16)
発明者
  • 土田 英俊
  • 山元 公寿
  • 宮武 健治
  • 西村 幸生
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法 実績あり
発明の概要 【課題】 溶解性、成型性に優れ、非線形光学特性、高屈折率、および光照射により高分解効率でプロトンを発生するポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物を製造する。
【解決手段】 次式〔1〕
【化1】
(R1 -R4 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基を示し、互いに同じであっても異なった種類であってもよい。R5 は、アルキル基、またはアリール基を示す。X- はアニオンである。nは、2以上の整数で重合度を示す。)で表されるポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物を、対応するアリールスルホキシド化合物の酸とアミン化合物の存在下で重合によって製造する。
従来技術、競合技術の概要


ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物は、従来、ポリ(チオフェニレン)とメチルトリフレートやジフェニルヨードニウム塩などとの反応により合成されているが、すべてのスルフィド結合をスルホニオ化することは困難であり、通常、スルホニオ化率は約30%以下に留まることが知られている。一方、最近になって、4-メチルスルフィニルジフェニルスルフィドを強酸中で縮重合、あるいは4-メチルスルフェニルジフェニルスルフィドの酸化重合により、スルフィド基とスルホニオ基がベンゼン環を介して交番結合したポリ(メチルスルホニオ-1,4-フェニレンチオ-1,4-フェニレン塩)が得られることが報告されている(J.Am.Chem.Soc., 115,5819,1993)。しかしながら、この場合においてもスルホニオ化率は50%を超えていない。また、メチルスルホキシドを出発モノマーに用いても重合反応は生起せず、スルホニオ化率100%であるポリ(メチルスルホニオ-1,4-フェニレン塩)の合成は、これまで困難であった。
そこで、この出願の発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的はメチルフェニルスルホキシドおよびその誘導体を出発モノマーとする温和な重合条件下で、ベンゼン環とスルホニオ基が交互に連結したポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の新しい製造方法を提供することにある。

産業上の利用分野


この出願の発明は、ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、光照射により高い分解効率でプロトンを発生し、また高分子量ポリ(チオフェニレン)合成の前駆体となり得る、ベンゼン環とスルホニオ基が交互に連結したポリ(フェニレンスルホニウム塩)化合物の製造法に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
次式〔1〕
【化1】
(R1ないしR4の各々は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、またはアルコキシ基を示し、互いに同じであっても異なった種類であってもよい。R5は、アルキル基、またはアリール基を示す。X-はアニオンである。nは、2以上の整数で重合度を示す。)で表されるポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法であって、次式〔2〕
【化2】
(R1ないしR4、およびR5は前記のものを示す。)で表わされるアリールスルホキシド化合物を、酸とジフェニルアミン化合物の存在下に重合させることを特徴とするポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法。

【請求項2】
1ないしR4の全てが水素原子である請求項1のポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法。

【請求項3】
5がメチル基である請求項1または2のポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 登録
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST 単一分子・原子レベルの反応制御 領域
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