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電子部品およびその製造方法 コモンズ 外国出願あり

国内特許コード P05P003284
整理番号 20
掲載日 2005年5月16日
出願番号 特願2002-320407
公開番号 特開2004-156074
登録番号 特許第4032116号
出願日 平成14年11月1日(2002.11.1)
公開日 平成16年6月3日(2004.6.3)
登録日 平成19年11月2日(2007.11.2)
発明者
  • 新井 進
  • 遠藤 守信
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 電子部品およびその製造方法 コモンズ 外国出願あり
発明の概要

【課題】金属中に微細炭素繊維もしくはその誘導体を常温で混入させることのできるめっき構造物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るめっき構造物は、めっき皮膜中に微細炭素繊維もしくはその誘導体が混入していることを特徴とする。また、さらに加えて、めっき皮膜中に樹脂材を混入させることもできる。誘導体としては、微細炭素繊維に種々の化学修飾を施したものや微細炭素繊維をフッ素化したものが含まれる。なお、微細炭素繊維とは、概ね、直径が200nm以下、アスペクト比が10以上のものをいう。
【選択図】図1

従来技術、競合技術の概要
カーボンナノチューブ(CNT)あるいはナノファイバーと呼ばれる微細炭素繊維(直径200nm以下、アスペクト比10以上)は、炭素の基本骨格(6員環)が軸方向に配列していることが特徴であり、その特徴に由来する、熱伝導性、電気伝導性、摺動特性、機械的強度等の特性に優れていることが期待でき、幅広い用途に用いられようとしている。
上記CNTの製造方法は種々知られているが、量産性の点から気相成長法が有利とされている(田中一義[編]「カーボンナノチューブ」化学同人出版、2001年1月30日、P.67-77)。
【0003】
【非特許文献】
田中一義[編]「カーボンナノチューブ」化学同人出版、2001年1月30日、P.67-77
産業上の利用分野
本発明は電子部品およびその製造方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 配線パターンを有する電子部品において、
前記配線パターンが、分散剤によりカーボンナノチューブが液中に分散されて混入した水溶液性のめっき液を用いてめっきされて、めっき金属中にカーボンナノチューブが取り込まれためっき皮膜により形成されていることを特徴とする電子部品。
【請求項2】 めっき皮膜が単一の金属からなることを特徴とする請求項1記載の電子部品。
【請求項3】 めっき皮膜が合金めっき皮膜であることを特徴とする請求項1記載の電子部品。
【請求項4】 めっき皮膜が電解めっき皮膜であることを特徴とする請求項1~3いずれか1項記載の電子部品。
【請求項5】 めっき皮膜が無電解めっき皮膜と、該無電解めっき皮膜上に形成された電解めっき皮膜とからなることを特徴とする請求項1~3いずれか1項記載の電子部品。
【請求項6】 配線パターンを有する電子部品の製造方法において、水溶液性のめっき液中に分散剤とカーボンナノチューブを添加して、該分散剤によりめっき液中にカーボンナノチューブを分散させ、該カーボンナノチューブを分散させためっき液によりめっきを施して、カーボンナノチューブが混入しているめっき皮膜からなる前記配線パターンを形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
【請求項7】 配線パターンを有する多層回路基板の製造方法において、
下層の配線パターン上に絶縁層を形成する工程と、
該絶縁層に前記下層の配線パターンが露出するビアホールを形成する工程と、
水溶液性のめっき液中に分散剤とカーボンナノチューブを添加して、該分散剤によりめっき液中にカーボンナノチューブを分散させ、該カーボンナノチューブを分散させためっき液により電解めっきを施して、前記ビアホール内に、めっき金属中にカーボンナノチューブが混入しているビアを形成する工程と、
前記絶縁層上に前記ビアが露出する所要のレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程と、
水溶液性の無電解めっき液中および電解めっき液中に分散剤とカーボンナノチューブを添加して、該分散剤によりにカーボンナノチューブを分散させ、該カーボンナノチューブを分散させた無電解めっき液および電解めっき液により、前記レジストパターンをマスクとして、無電解めっき、次いで電解めっきを施して、前記ビアに電気的に接続する、カーボンナノチューブが混入しためっき皮膜からなる配線パターンを形成する工程とを含むことを特徴とする配線パターンを有する多層回路基板の製造方法。
【請求項8】 前記分散剤にポリアクリル酸を用いることを特徴とする請求項6または7記載の電子部品の製造方法。
産業区分
  • 表面処理
  • 高分子化合物
  • 固体素子
  • 電子管
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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