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該当件数 115件

No. 出願番号
特許番号
発明の名称
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データ提供機関
1 特願2016-086074 特開2017-193770 Ru成膜方法、Ru成膜装置、金属成膜装置、Ruバリアメタル層、配線構造 NEW 2017/11/21 2017/11/21 茨城大学
2 特願2016-035760 特開2017-152628 銅の成膜装置、銅の成膜方法、銅配線形成方法、銅配線 UPDATE 2017/09/26 2017/11/21 茨城大学
3 特願2013-181145 特許第5613805号 酸化亜鉛系透明導電膜、マグネトロンスパッタリング用焼結体ターゲット、液晶ディスプレイ及びタッチパネル、ならびに酸化亜鉛系透明導電膜を含んでなる機器 UPDATE 新技術説明会 2017/08/02 2017/12/14 金沢工業大学
4 特願2015-534036 特許第6133991号 ゲルマニウム層上に酸化ゲルマニウムを含む膜を備える半導体構造およびその製造方法 2017/06/23 2017/06/23 科学技術振興機構(JST)
5 特願2015-537904 WO2015041173 高温超伝導線材の製造方法および高温超伝導線材 2017/04/07 2017/04/07 京都大学
6 特願2014-521490 特許第6198276号 C12A7エレクトライドの薄膜の製造方法、およびC12A7エレクトライドの薄膜 2017/03/16 2017/09/26 科学技術振興機構(JST)
7 特願2014-521492 WO2013191212 有機エレクトロルミネッセンス素子 2017/03/16 2017/03/16 科学技術振興機構(JST)
8 特願2015-525201 WO2015002131 磁化同軸プラズマ生成装置 2017/03/14 2017/03/14 日大NUBIC
9 特願2009-070630 特許第5196403号 サファイア基板の製造方法、および半導体装置 実績あり 2016/09/08 2016/09/08 山口TLO
10 特願2002-207263 特許第3936970号 薄膜作製用スパッタ装置 新技術説明会 実績あり 2016/06/29 2016/06/29 山口TLO
11 特願2007-078925 特許第4742276号 強磁性体の形成方法並びにトランジスタ及びその製造方法 2016/03/10 2016/03/10 科学技術振興機構(JST)
12 特願2013-165669 特許第6168518号 金属蒸着用るつぼ 2015/04/20 2017/08/01 山口大学
13 特願2013-112995 特許第5493139号 ナノクラスター生成装置 新技術説明会 2015/02/24 2015/09/11 科学技術振興機構(JST)
14 特願2006-162394 特許第4514157号 イオンビーム照射装置および半導体デバイスの製造方法 外国出願あり 2014/08/08 2015/08/06 京都大学
15 特願2004-343001 特許第4716277号 薄膜形成方法、蒸着源基板、および蒸着源基板の製造方法 2014/02/21 2015/08/06 京都大学
16 特願2012-087038 特許第5688664号 膜厚方向に組成比が連続的に変化した薄膜の製造方法 2013/12/13 2015/08/17 山口TLO
17 特願2009-517758 特許第5300084号 薄膜作製用スパッタ装置 実績あり 外国出願あり 2013/11/12 2013/12/25 山口TLO
18 特願2012-068695 特許第5996227号 酸化物膜及びその製造方法 新技術説明会 外国出願あり 2013/10/17 2016/10/03 龍谷大学
19 特願2005-372927 特許第4922611号 酸化亜鉛光デバイス、酸化亜鉛光デバイスの製造方法、および酸化亜鉛光デバイスの利用方法 コモンズ 2013/08/13 2013/08/13 東京理科大学
20 特願2007-168708 特許第5251015号 熱処理装置及び熱処理方法 実績あり 2013/08/05 2013/08/06 関西学院大学
21 特願2010-164010 特許第5561676号 SiC半導体ウエーハ熱処理装置 実績あり 2013/08/05 2015/08/11 関西学院大学
22 特願2011-254205 特許第5877509号 荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法 2013/06/12 2016/03/16 静岡大学
23 特願2012-120803 特許第5946060号 接合部材、その形成方法及び装置 新技術説明会 2013/06/12 2016/07/14 広島大学
24 特願2012-129099 特許第5897409号 薄膜形成方法及び切削工具の製造方法 新技術説明会 2013/06/12 2016/04/08 広島大学
25 特願2012-147355 特開2014-009131 湾曲結晶の製造方法および湾曲結晶 2013/04/15 2015/08/17 中央大学
26 特願2011-141111 特許第6010809号 半導体装置の製造方法 コモンズ 新技術説明会 2013/04/10 2016/10/26 琉球大学
27 特願2001-058917 特許第5002864号 有機金属化合物を用いた酸化物光触媒材料およびその応用品 コモンズ 実績あり 2013/04/08 2016/10/13 八戸工業高等専門学校
28 特願2011-197115 特許第5773491号 ナノ接合素子およびその製造方法 2013/04/04 2015/10/09 北海道大学
29 特願2012-116559 特許第5963132号 ダイヤモンド合成方法およびダイヤモンド合成装置 新技術説明会 2013/04/04 2016/08/10 八戸工業高等専門学校
30 特願2011-166506 特許第5943318号 透明導電膜作成方法 新技術説明会 2013/03/14 2016/07/14 島根大学
31 特願2011-033994 特許第5669198号 スパッタリング装置 2013/02/18 2015/08/07 金沢工業大学
32 特願2011-088465 特許第5395842号 真空蒸着成膜方法、真空蒸着成膜システム、結晶性真空蒸着膜 2012/11/21 2014/11/27 自然科学研究機構(NINS)
33 特願2010-134503 特許第5610430号 透明導電薄膜、及びタッチパネル 新技術説明会 2012/11/01 2015/08/14 広島大学
34 特願2011-067091 特許第5641348号 リン系化合物半導体の製造方法 新技術説明会 2012/11/01 2016/10/03 京都大学
35 特願2012-139897 特許第5246900号 酸化マグネシウム薄膜の作成方法 2012/08/31 2014/11/06 科学技術振興機構(JST)
36 特願2011-189748 特許第5692726号 アルミニウム薄膜の製造方法 2012/05/14 2015/08/14 鹿児島大学
37 特願2011-031874 特許第5794519号 複合膜の成膜装置及び成膜方法 2012/04/23 2015/10/22 富山大学
38 特願2011-017820 特許第5807893号 微粒子の製造方法 新技術説明会 2012/02/22 2015/11/24 千葉大学
39 特願2010-126581 特許第5429752号 透明導電薄膜用ターゲット材およびその製造方法 新技術説明会 2012/01/10 2014/08/06 島根大学
40 特願2006-098046 特許第4370408号 レーザーアブレーション成膜装置 コモンズ 2011/12/19 2011/12/19 大分大学
41 特願2008-273051 特許第5387815号 立方晶窒化ホウ素被覆膜複合材料 2011/11/28 2014/11/06 九州大学
42 特願2005-217051 特許第4982840号 TiN系硬質被膜、及びそれを含む表面硬化材 コモンズ 2011/08/18 2012/07/31 横浜国立大学
43 特願2005-154901 特許第4774510号 プラズマ蒸着装置 コモンズ 2011/08/18 2016/03/16 宇都宮大学
44 特願平10-258973 特許第3268443号 レーザ加熱装置 実績あり 2011/07/21 2015/09/11 科学技術振興機構(JST)
45 特願平10-280525 特許第3865513号 窒素化合物ガスクラスターイオンビームによる窒化物もしくは窒化表面の形成方法 実績あり 2011/07/21 2015/08/28 科学技術振興機構(JST)
46 特願平11-052009 特許第4355782号 耐酸化性の改善されたフェライト系耐熱鋼 2011/07/21 2013/04/18 科学技術振興機構(JST)
47 特願2010-004370 特許第5131603号 炭素系薄膜の製造方法 コモンズ 2011/07/14 2015/09/03 科学技術振興機構(JST)
48 特願2010-068707 特許第4568827号 アモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法 実績あり 2011/07/14 2015/10/29 科学技術振興機構(JST)
49 特願2010-068708 特許第4568828号 アモルファス酸化物薄膜 実績あり 2011/07/14 2015/10/29 科学技術振興機構(JST)
50 特願2010-223441 特許第5330349号 単結晶薄膜の製造方法 2011/07/14 2015/09/03 科学技術振興機構(JST)
51 特願2008-228904 特許第5408565号 表面増強赤外吸収センサー材料 2011/07/08 2014/12/05 物質・材料研究機構
52 特願2008-072573 特許第5388266号 ZnO系ターゲット及びその製造方法並び導電性薄膜の製造方法及び導電性薄膜 2011/07/07 2015/09/02 科学技術振興機構(JST)
53 特願2007-034150 特許第4885002号 超伝導化合物薄膜及びその作成方法 コモンズ 2011/07/04 2015/09/11 科学技術振興機構(JST)
54 特願2006-510488 特許第4672650号 炭素系薄膜およびその製造方法、ならびにこの薄膜を用いた部材 コモンズ 2011/07/01 2015/09/11 科学技術振興機構(JST)
55 特願2005-503668 特許第4214279号 4元組成比傾斜膜の作成方法及び2元組成比・膜厚傾斜膜の作成方法 コモンズ 2011/06/23 2015/09/02 科学技術振興機構(JST)
56 特願2004-251151 特許第4766416号 マスキング機構及びそれを備えた成膜装置 2011/06/21 2013/04/26 科学技術振興機構(JST)
57 特願2004-537609 特許第4168425号 成膜装置用マスキング機構 コモンズ 2011/06/21 2015/09/02 科学技術振興機構(JST)
58 特願2004-054035 特許第4587276号 液晶高分子からなる膜の製造方法 2011/06/20 2015/09/02 科学技術振興機構(JST)
59 特願2003-308020 特許第4495426号 超伝導膜およびその製造方法 2011/06/17 2011/06/17 科学技術振興機構(JST)
60 特願2003-368423 特許第4284152号 炭素薄膜の加工方法及び製造方法 2011/06/17 2015/08/28 科学技術振興機構(JST)
61 特願2000-205941 特許第3531865号 超平坦透明導電膜およびその製造方法 2011/06/08 2015/09/09 科学技術振興機構(JST)
62 特願2000-259777 特許第3446138号 基板マスキング機構およびコンビナトリアル成膜装置 実績あり 2011/06/08 2015/08/28 科学技術振興機構(JST)
63 特願2000-394583 特許第4224594号 フレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法 2011/06/08 2013/04/23 科学技術振興機構(JST)
64 特願2009-260846 特許第5432675号 金微粒子の製造方法、金微粒子、レーザアブレーション装置、それに用いられる収集部材及び微粒子の製造方法 新技術説明会 2011/06/06 2014/09/18 広島大学
65 特願2010-270539 特許第5747318号 薄膜共振子 2011/05/31 2017/03/03 名古屋工業大学
66 特願2009-026928 特許第5458300号 微細構造物の蒸着装置及び方法 2011/05/20 2015/10/13 横浜市立大学
67 特願2010-138027 特許第5545567号 単結晶ダイヤモンド成長用の基材及び単結晶ダイヤモンドの製造方法 2011/04/12 2015/08/12 金沢大TLO
68 特願2007-262596 特許第4984070号 成膜方法及び成膜装置 2011/03/28 2012/07/31 長崎大学
69 特願2007-298752 特許第5394632号 単結晶SiC基板の製造方法 2011/03/14 2014/12/04 大阪府立大学
70 特願2009-054831 特許第5570131号 磁性微粒子、その製造方法及びその製造装置並びに腫瘍細胞破壊用磁性微粒子、細胞破壊方法、細胞破壊装置及び治療装置 UPDATE 2010/12/13 2017/11/21 宇都宮大学
71 特願2010-157342 特許第5493107号 面方位(111)のMgO薄膜の作製方法 コモンズ 2010/08/13 2015/09/10 科学技術振興機構(JST)
72 特願2009-065969 特許第5236542号 酸化物超伝導薄膜の製造方法 新技術説明会 2010/07/09 2013/07/24 熊本高等専門学校(八代キャンパス)
73 特願2008-173787 特許第5317033号 アナターゼ型酸化チタン 新技術説明会 2010/02/19 2013/10/25 島根大学
74 特願2008-035297 特許第5363742号 酸化亜鉛系透明導電膜 2009/10/23 2013/12/17 金沢工業大学
75 特願2008-082208 特許第4993211号 真空搬送機構及びそれを備えたマルチチャンバシステム コモンズ 2009/10/23 2012/08/10 科学技術振興機構(JST)
76 特願2009-113721 特許第5507882号 酸化亜鉛透明導電膜の製造方法及びこの方法を実施するための製造装置 新技術説明会 2009/07/17 2015/08/07 茨城大学
77 特願2007-322712 特許第5344449号 半導体多結晶薄膜及び半導体装置 新技術説明会 2009/07/03 2013/11/26 島根大学
78 特願2005-220458 特許第4590560号 有機単分子膜成膜装置及び該方法 2009/05/08 2012/04/20 京都大学
79 特願2006-143925 特許第4839438号 被膜生成方法および被膜生成装置 2009/04/24 2011/12/26 宮崎大学
80 特願2003-064586 特許第3950967号 真空紫外光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法及びパターン形成方法 2008/12/19 2017/05/08 防衛省
81 特願2007-012113 特許第4257437号 薄膜電極の製造方法 2008/08/15 2008/08/14 長岡技術科学大学
82 特願2005-131611 特許第4769014号 同軸磁化プラズマ生成装置と同軸磁化プラズマ生成装置を用いた膜形成装置 2008/03/14 2016/03/16 日大NUBIC
83 特願2003-042270 特許第4009719号 ニッケルシリサイド膜の作製方法 コモンズ 2008/03/10 2013/04/25 名古屋大学
84 特願2006-234266 特許第5035824号 アモルファスリン酸カルシウム薄膜付き光触媒 UPDATE 2008/03/10 2017/11/28 東京電機大学
85 特願2001-046866 特許第3820443号 レーザーアブレーションを利用したSiO膜の形成法及び装置 2008/01/25 2015/12/07 防衛省
86 特願2005-350575 特許第4599595号 透明導電膜の製造方法および製造装置 2008/01/18 2010/12/21 金沢工業大学
87 特願平10-091749 特許第3463159号 物体の加工処理方法と、その装置 2008/01/18 2017/03/08 金沢工業大学
88 特願2002-082289 特許第3673829号 レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法 2007/11/16 2015/12/07 防衛省
89 特願2002-313636 特許第4195928号 原子レベルで平坦な金薄膜作製法 新技術説明会 2007/10/04 2013/04/25 鹿児島TLO
90 特願2004-148320 特許第4912572号 Ti-Al-N膜の形成方法 新技術説明会 2007/09/14 2012/04/16 タマティーエルオー
91 特願2004-228109 特許第4979882号 Al-Si膜の形成方法 新技術説明会 2007/09/14 2012/07/20 タマティーエルオー
92 特願2004-300122 特許第4828108号 物理蒸着装置 新技術説明会 2007/09/14 2011/12/05 タマティーエルオー
93 特願2005-282958 特許第4910124号 半導体薄膜製造装置および方法 新技術説明会 2007/08/31 2012/04/24 東京農工大学
94 特願2003-403597 特許第4288347号 マイクロ・ナノパターン構造体及びその製造方法 2007/07/27 2013/04/26 名古屋工業大学
95 特願2005-249997 特許第4756240号 高輝度・低駆動電圧型ナノシリコン発光素子とその製造方法 新技術説明会 2007/04/02 2011/08/26 東京電機大学
96 特願2005-164885 特許第4448792号 金属オキシナイトライド酸素還元電極触媒及びその製造方法 コモンズ 新技術説明会 2007/01/09 2015/09/10 科学技術振興機構(JST)
97 特願2003-154194 特許第4496361号 Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法 2006/06/08 2013/04/26 原子力機構
98 特願2004-020536 特許第4644797号 レーザ照射方法及び装置、微細加工方法及び装置、並びに薄膜形成方法及び装置 コモンズ 2006/04/07 2012/04/16 京都大学
99 特願2004-224039 特許第4590225号 分子線エピタキシャル成長装置およびそれを用いたシリコン基板上へのIII族窒化物単結晶膜の製造方法 2006/01/06 2010/12/06 同志社大学
100 特願2002-286932 特許第3629544号 レーザー光を用いたSi-O-Si結合を含む固体化合物の表面改質法 2005/12/02 2015/12/07 防衛省

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