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超臨界二酸化炭素中における溝呂木-Heck反応の高効率化

研究報告コード R000000432
掲載日 2002年9月30日
研究者
  • 榧木 啓人
  • 野口 雄志
  • 碇屋 隆雄
研究者所属機関
  • 東京工業大学大学院理工学研究科
  • 東京工業大学大学院理工学研究科
  • 東京工業大学大学院理工学研究科
研究機関
  • 東京工業大学大学院理工学研究科
報告名称 超臨界二酸化炭素中における溝呂木-Heck反応の高効率化
報告概要 超臨界二酸化炭素がホスファイト配位子を有するパラジウム触媒を用いる高効率カルボニル化反応のおよび,シラン類のメディエータとするラジカルカルボニル化反応の媒体として有用であることを見出している。今回,超臨界流体触媒反応法のオレフィン類のアリール化反応(溝呂木-Heck反応)への適用を検討した。二酸化炭素中における反応の挙動を詳細に調べた結果,超臨界二酸化炭素-液相の二相系反応においてアリール反応の反応効率が制御できることを見出した。二酸化炭素100気圧,130℃の条件下では,反応は液相で進行する一方,生成物のスチレン誘導体は超臨界相に抽出された結果,スチレン選択性が向上した。
画像

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研究分野
  • 単環脂環式化合物一般
  • 高分子担体・触媒反応
  • 重合反応一般
関連発表論文 (1)"Enhanced Product Selectivity in the Mizoroki-Heck Reaction Usinga Supercritical Carbon Dioxide-Liquid Biphasic System" Y. Kayaki, Y. Noguchi, and T. Ikariya, Chem. Commun., 2245-2246 (2000).
研究制度
  • 戦略的基礎研究推進事業、研究領域「単一分子・原子レベルの反応制御」研究代表者 鈴木 寛治(東工大工学部)/科学技術振興事業団
研究報告資料
  • 榧木 啓人,野口 雄志,碇屋 隆雄. 超臨界二酸化炭素中における溝呂木-Heck反応の高効率化. 戦略的基礎研究推進事業 単一分子・原子レベルの反応制御 第4回シンポジウム —2期・3期チームの研究進捗— 講演要旨集,2000. p.61 - 61.

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