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銅(001)面上のコバルト超薄膜磁性のセシウム吸着効果

研究報告コード R000000721
掲載日 2002年9月30日
研究者
  • 飯盛 拓嗣
  • Ki-Dong Lee
  • Mingchun Xu
  • 小森 文夫
研究者所属機関
  • 東京大学物性研究所
  • 科学技術振興事業団 戦略的基礎研究推進事業
  • 科学技術振興事業団 戦略的基礎研究推進事業
  • 東京大学物性研究所
研究機関
  • 東京大学物性研究所
  • 科学技術振興事業団 戦略的基礎研究推進事業
報告名称 銅(001)面上のコバルト超薄膜磁性のセシウム吸着効果
報告概要 セシウムと磁性遷移金属との相互作用を調べるために,一様なコバルト薄膜にセシウムを1原子層以下蒸着させた試料の強磁性を調べた。試料には,超高真空中で室温の清浄な銅(001)面上にコバルトを3-5原子層蒸着したfccコバルト(001)面薄膜を用いた。強磁性の評価には,同じ超高真空中に設置したヘルムホルツコイルを用いて,磁気カー効果を用いて調べた。セシウムを蒸着する前後で,低速電子回折パターンと磁気ヒステリシスを測定し,セシウム吸着による変化を測定した。その結果,コバルト薄膜に,1原子層以下のセシウムを蒸着させると,回折パターンは,整数次スポットのまわりの円周上に12個の超格子スポットが現れた。これは,1原子層厚さのセシウム薄膜成長が,銅(001)面上のセシウムとほぼ同じで,歪んだヘキサゴナル構造をもつからだと考えられる。このような表面の磁化過程を測定すると,図1のように,3段階のヒステリシス曲線が得られた。
画像

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R000000721_01SUM.gif
研究分野
  • 半導体レーザ
  • 半導体薄膜
  • 磁性体測定技術・装置
  • 無機化合物の磁性
  • 無機化合物一般及び元素
研究制度
  • 戦略的基礎研究推進事業、研究領域「量子効果等の物理現象」研究代表者 家 泰弘(東京大学物性研究所)/科学技術振興事業団
研究報告資料
  • 飯盛 拓嗣,Ki-Dong Lee,Mingchun Xu,小森 文夫. 銅(001)面上のコバルト超薄膜磁性のセシウム吸着効果. 戦略的基礎研究推進事業 量子効果等の物理現象 第4回シンポジウム予稿集,2000. p.143 - 143.

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