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新しい表面構造解析法の開発

研究報告コード R013000213
掲載日 2003年10月1日
研究者
  • 朝倉 清高
研究者所属機関
  • 北海道大学触媒化学研究センター
研究機関
  • 北海道大学触媒化学研究センター
報告名称 新しい表面構造解析法の開発
報告概要 原子分子レベルで反応を制御し,選択性100%,転換率100%の完全触媒を構築するためには,表面化学プロセスが起こっている状況で,原子・分子の動きを直接捕らえ,プロセス全体を支配する素過程を解明することが必要である。一方化学プロセスを理解するためには,表面の原子,分子の電子状態,化学結合などをin-situ条件下で捕らえることがさらに必要となる。そこで,本研究では,in-situ条件下で表面の化学プロセスを捕らえることができる新しい表面解析法の開発を行った。その一つは,表面の化学プロセスの動的過程を直接可視化して,表面ダイナミクスを明らかにできる可能性をもつXPEEM(X線光電子放出顕微鏡)法の開発であり,もう一つは,表面に高分散し長距離秩序を有しない触媒活性点の立体構造を決定することのできる偏光全反射蛍光XAFS(X線吸収微細構造)法の開発である。後者でCu/TiO2(110)表面を測定し,TiO2(110)表面のCuトライマーのモデル構造を決定した(図1)。
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研究分野
  • 分子の幾何学的構造一般
  • 固体の表面構造一般
  • 触媒の性質一般
  • 分光法と分光計一般
関連発表論文 (1)Yamaguchi, Y.; Takakusagi, S.; Sakai, Y.; Kato, M.; Asakura, K.; Iwasawa, Y. J. Mol. Catal. 1999, 141, 129-137.
(2)Asakura, K.; Chun, W.-J.; Iwasawa, Y. Topics in Catal. 2000, 10, 209-219.
(3)Asakura, K. Hyomen Kagaku, 2000, 21, 294-299.
(4)朝倉,田,野村,岩澤,宮本,小野,特開2001-033403,033357.
(5)Asakura, K.; Ijima, K. J. Electrospectro 2001, in press.
(6)Chun, W.-J.; Asakura, K.; Iwasawa, Y. J. Phys. Chem. 1998, 102, 9006-9014.
(7)Yamaguchi, Y.; Chun, W.J.; Suzuki, S.; Onishi, H.; Asakura, K.; Iwasawa, Y. Res. Chem. Intermed. 1998, 24, 151-168.
(8)Asakura, K.; Chun, W.-J.; Iwasawa, Y. J.J. Appl. Phys. 1999, 38 Suppl. 38-1, 40-43.
(9)Tanizawa, Y.; Chun, W.J.; Shido, T.; Asakura, K.; Iwasawa, Y. in Studies Surf. Sci. Catal; Elsevier: Amsterdam, 2001; Vol. 132; pp757.
研究制度
  • 戦略的基礎研究推進事業、単一分子・原子レベルの反応制御/研究分担者 朝倉 清高(北海道大学触媒化学研究センター)/科学技術振興事業団
研究報告資料
  • 朝倉 清高. 新しい表面構造解析法の開発. 戦略的基礎研究推進事業 単一分子・原子レベルの反応制御 第5回シンポジウム —1期チーム(平成7年度採択)研究成果報告— 講演要旨集,2001. p.85 - 87.

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