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ナノ粒子とナノワイヤ シリコンクラスターのクラスタービーム生成法

研究報告コード R990004049
掲載日 2001年2月6日
研究者
  • 西村 公宏
研究者所属機関
  • 科学技術振興事業団 創造科学技術推進事業
研究機関
  • 科学技術振興事業団 創造科学技術推進事業
報告名称 ナノ粒子とナノワイヤ シリコンクラスターのクラスタービーム生成法
報告概要 サイズが数nm~数十nmの超微粒子は構成原子の大半がその表面に存在することから,バルク材料とは違った性質を示すことが期待されるが,その構造や物性を実験的に測定するためには素性の確かな粒子表面を生成することが必要不可欠である。ガス中におけるレーザー蒸発を用い,原子数が30~4000のシリコンクラスタービームを生成することに成功した。飛行時間型質量分析計によりクラスターのサイズ分布を測定し,その圧力依存性を調べた。生成チャンバーの圧力が高いとサイズは大きいほうにシフトし,クラスターの速度も大きくなる。ビームの大部分はシリコン原子数が数千のナノ粒子である。クラスターの速度分布はそのサイズに依存し,小さいクラスターほど速度は大きい。速度分布の観測結果はクラスターが不活性ガス流中での分子衝突によって加速されることを示しており、弾性衝突を仮定したモデル計算により説明できる。
画像

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研究分野
  • 非晶質半導体の構造
  • 非金属元素とその化合物の結晶構造
  • 半導体の表面構造
研究制度
  • 創造科学技術推進事業、高柳粒子表面プロジェクト/科学技術振興事業団
研究報告資料
  • 西村 公宏. ナノ粒子とナノワイヤ シリコンクラスターのクラスタービーム生成法. 創造科学技術推進事業 高柳粒子表面プロジェクト シンポジウム概要集(研究期間:1994-1999),1999. p.65 - 66.

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