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電子線リソグラフィーによる炭素系ハイブリッド構造膜の創製と高機能化

研究報告コード R070000245
整理番号 R070000245
掲載日 2008年4月11日
研究者
  • 岩村 栄治
研究者所属機関
報告名称 電子線リソグラフィーによる炭素系ハイブリッド構造膜の創製と高機能化
報告概要 本研究ではa-C、ナノグラファイト、カーボンオニオン、CNTなどをハイブリッド/ナノコンポジット薄膜化した材料システムを提供することにより、次世代機能デバイス等への応用を促進し、工業的発展への貢献を最終的なゴールと考えた。すなわち炭素薄膜の秩序/無秩序構造制御による三次元的なハイブリッド/ナノコンポジット化と、新たな薄膜材料設計および形成プロセスの基礎を構築することを目標とした。具体的には、比較的低温で容易に形成できるa-C薄膜形成と、電子シャワーによる低エネルギー付与という新しいプロセスの組み合わせによる微細構造改質を着想して、ハイブリッドカーボン薄膜を実現することを試みた。a-C膜は広範囲の密度におよぶ準安定構造が比較的容易に制御でき、さらに各種の第二、第三元素のドープも比較的容易である。一方、電子線照射プロセスでは、照射パラメータ(電子のエネルギー(加速電圧)、照射率および照射時間)をそれぞれ独立かつ精密に制御でき、低エネルギー電子線を用いることで照射欠陥の導入を最小限として、さらに、エネルギー吸収が照射物質の密度に依存することを利用したパターン形成が期待できる。このプロセスを利用して、触媒金属や炭素間結合の励起を利用したa-Cのネットワーク再構成(秩序化)機構と電子線照射効果を明らかにして、さらに金属マスク等を用いた電子線リソグラフィーによって、アモルファス構造とナノオーダ-の秩序化構造を持ったハイブリッド構造膜を形成できると考えた。そして、この新たなハイブリッド構造の配列、周期性や異方性と特性の相関関係を定量化し、構成ユニットの物性差や次元性と構造異方性を応用した高機能薄膜を開発することを目指した。
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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
研究制度
  • 戦略的創造研究推進事業 さきがけタイプ(旧若手個人研究推進事業を含む)/秩序と物性
研究報告資料
  • 岩村 栄治. 電子線リソグラフィーによる炭素系ハイブリッド構造膜の創製と高機能化. さきがけライブ2004 ナノテクノロジー分野合同研究報告会 「秩序と物性」領域 講演要旨集(研究期間:2001-2004), 2005. p.2 - 9.

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