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マイクロスフィアの連続製造装置

シーズコード S100002014
掲載日 2010年10月6日
研究者
  • 中嶋 光敏
  • 菊池 佑二
  • 佐野 洋
  • 鍋谷 浩志
  • 川勝 孝博
  • 小林 功
  • 鷹尾 宏之進
技術名称 マイクロスフィアの連続製造装置
技術概要 マイクロスフィアの連続製造装置1は、連続相に比較して比重の小さな分散相Oを連続相中に送り込む装置である。この装置1は、垂直方向または傾斜して配置される基板25と、この基板25に対向配置されるプレート22を備え、基板25には分散相Oの供給口29が形成され、また基板のプレートとの対向面には分散相が供給される空間と連続相が供給される空間とを画成する境界部30が分散相の供給口29を囲むように設けられ、この境界部30のうち分散相の供給口よりも上方となる箇所には一定幅のマイクロチャネル33が上下方向に多数形成され、このマイクロチャネル33を介して分散相Oと連続相Wとが接触する構造とするとともに、マイクロチャネルよりも上方位置にマイクロスフィアの取出口32を設けた。このように、マイクロスフィアを形成するマイクロチャネルを上下方向とすることでマイクロチャネルにおいて比重差を利用してマイクロスフィアを形成できる。基板に対向するプレートを透明プレートとすることができる。これにより、分散相のチャネル移動および連続相との接触状態を光学的に直接観察でき、マイクロスフィアの製造を制御することが可能となる。
画像

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研究分野
  • 化学装置一般
  • 各種物理的手法
  • 医用素材
展開可能なシーズ 均質なエマルションを連続的に得ることができ、且つエマルションの形成とエマルションの取出しに大きな動力を必要としないマイクロスフイアの連続製造装置を提供する。
粒径分布が広がらず、均質なマイクロスフィアを連続して効率よく製造することができる。マイクロチャネルの形成方法としては、半導体集積回路の製造工程の1つであるエッチング工程を応用して基板に任意の形状で一定幅の多数のマイクロチャネルを形成することができる。
用途利用分野 食品工業、医薬品製造、化粧品製造
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構, . 中嶋 光敏, 菊池 佑二, 佐野 洋, 鍋谷 浩志, 川勝 孝博, 小林 功, 鷹尾 宏之進, . マイクロスフィアの連続製造装置. 特開平11-276802. 1999-10-12
  • B01F  3/08      
  • B01D  17/00     
  • B01F  5/00      
  • B01J 13/00      

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