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微細パターンの作製方法

シーズコード S100002581
掲載日 2010年11月4日
研究者
  • 逢坂 哲彌
  • 横島 時彦
  • 清水 さなえ
  • 田中 厚志
技術名称 微細パターンの作製方法
技術概要 基板上にジメチルアミンボランを還元剤とする無電解めっき浴を用いて軟磁気特性を有する所用の微細パターンめっき膜を形成する方法である。この場合、所用のパターン部分に選択的に均質な無電解めっき膜を形成するように無電解めっき浴に微量の有機安定剤を添加すると共に、このめっき浴中の不純物を除去し、かつ、連続的に適度の攪拌を行う。好ましくは、無電解めっき浴として、コバルトイオン、ニッケルイオン、鉄イオンの1種もしくは2種以上を含み、有機安定剤としてチオジグリコール酸1~1.5ppm、チオ尿素0.2~0.3ppm又は2-アミノチアゾール0.3~0.5ppmを添加したジメチルアミンボランを還元剤とする浴を用いると共に、めっき浴を連続濾過し、かつ、パドルめっき装置にて60~80rpmの速度で攪拌を行いながら無電解めっきを行って、所用のパターン部分に均質な軟磁気特性を有する無電解めっき膜を形成する。
画像

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研究分野
  • 無電解めっき
展開可能なシーズ フォトレジスト膜に異常析出することなく、所用のパターンに選択的にめっきでき、かつ、良好な軟磁気特性を有すると共に、組成変化の少ない無電解めっき膜を形成できる微細パターンの作製方法を提供する。
本来の軟磁性薄膜の有する軟磁気特性が劣化することなく、選択析出性を向上させることができる。
用途利用分野 薄膜磁気ヘッド、薄膜インダクタ、薄膜トランス
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人早稲田大学, 富士通株式会社, . 逢坂 哲彌, 横島 時彦, 清水 さなえ, 田中 厚志, . 微細パターンの作製方法. 特開2002-080973. 2002-03-22
  • C23C  18/31     
  • C23C  18/50     
  • G11B   5/31     
  • H01F  10/16     
  • H01F  41/24     

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