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軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド

シーズコード S100002582
掲載日 2010年11月4日
研究者
  • 逢坂 哲彌
  • 横島 時彦
  • 清水 さなえ
  • 田中 厚志
技術名称 軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド
技術概要 無電解めっき法により、Co、Ni、Fe、及びBを含有し、Co含有量が40~80at%、Fe含有量が15~40at%、Ni含有量が5~20at%、B含有量が0.5~5at%である薄膜を、Coイオン、Feイオン、Niイオン、錯化剤、ホウ素含有還元剤を含み、総金属塩濃度が0.5モル/リットル以下、特にホウ素含有還元剤としてジメチルアミンボランが0.01~0.2モル/リットルの無電解めっき浴を用いて処理する。これにより、Bsが1.7T以上、保磁力が8Oe以下の軟磁性薄膜を形成することができる。また、めっき液の撹拌を行うことで、より低保磁力を有する軟磁性薄膜を得ることができる。即ち、Co、Ni、Fe及びBを含有し、Co含有量が40~80at%、Fe含有量が15~40at%、Ni含有量が5~20at%、B含有量が0.5~5at%であり、保磁力が8Oe以下、特に3Oe以下、好ましくは飽和磁束密度が1.7T以上であって、無電解めっき法により軟磁性薄膜を形成する。
研究分野
  • 磁性材料
  • 電子・磁気・光学記録
  • 無電解めっき
展開可能なシーズ 電解めっき法により得られたBsが1.7T以上の値を有する軟磁性薄膜、その製造方法、その軟磁性薄膜を用いた薄膜磁気記録ヘッドを提供する。
特定の薄膜を無電解めっき法により形成することにより、良好な低保磁力、高いBsを有する軟磁性薄膜を得ることができる。
用途利用分野 磁気記憶装置用薄膜磁気ヘッド、薄膜インダクタ
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人早稲田大学, 富士通株式会社, . 逢坂 哲彌, 横島 時彦, 清水 さなえ, 田中 厚志, . 軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド. 特開2002-270426. 2002-09-20
  • H01F  10/16     
  • C23C  18/50     
  • G11B   5/31     
  • H01F  41/24     

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