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すずーニッケル合金膜の製造方法

シーズコード S100002615
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 兼松 秀行
  • 小林 達正
  • 沖 猛雄
技術名称 すずーニッケル合金膜の製造方法
技術概要 方法は、所定の基板上に、ニッケル層とすず層とをそれぞれ順次に析出させて、ニッケル層とすず層とからなる多層膜を形成する。次いで、ここの多層膜をすずの融点以上の温度で加熱し、すずの液相拡散を利用することにより、NiSn相、NiSn相及びNiSn相を含み、非平衡NiSn相を含まない、装飾用の安定なすずーニッケル合金膜を製造する。加熱によるすず元素及びニッケル元素の拡散を通じて合金膜を製造するため、たたとえ非平衡なNiSnが生成したとしても、加熱拡散過程における加熱によって安定な平衡相へ移行してしまい、非平衡なNiSn相が含まれなくなる。
研究分野
  • 電解装置
  • 電気めっき
  • 金属薄膜
展開可能なシーズ 非平衡NiSn相を含まない安定なすずーニッケル合金膜を製造する方法を提供する。
非平衡NiSn相を含まないので、すずーニッケル合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによる合金膜の特性変化を抑制することができ、この合金膜に付与した機能性を長時間に亘って維持することができる。
用途利用分野 装飾用クロムめっき代替めっき
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 鈴鹿工業高等専門学校, . 兼松 秀行, 小林 達正, 沖 猛雄, . すずーニッケル合金膜の製造方法. 特開2002-129375. 2002-05-09
  • C25D   5/50     
  • C25D   7/00     

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