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すず-ニッケル合金膜の製造方法

シーズコード S100002619
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 兼松 秀行
  • 増尾 嘉彦
  • 沖 猛雄
技術名称 すず-ニッケル合金膜の製造方法
技術概要 方法は、所定の基板上に、ニッケル層とすず層とをそれぞれ順次に、ニッケル層を厚さ10μm~50μmに、すず層を厚さ10μm~50μmに析出させて、ニッケル層とすず層とからなる多層膜を形成する。次いで、この多層膜にレーザ光を照射することにより、すずの融点以上の温度に加熱してすず層を溶解させ、すずの液相拡散を利用して、すず-ニッケル合金膜を製造する。好ましくは、レーザ光を、150W/cm~500W/cmの強度で多層膜に照射し、照射時間を、5~60秒とする。またすず層及びニッケル層を、電気メッキ法により析出させ、すず-ニッケル合金膜が、NiSn相、NiSn相及びNiSn相の少なくとも一つを有する。これにより、電析によって各層を形成する場合の、形成条件の変動幅をある程度許容することができるとともに、非平衡なNiSnの生成を回避して短時間にすず-ニッケル合金膜を作製することができる。
研究分野
  • 電解装置
  • 電気めっき
  • 金属薄膜
展開可能なシーズ 非平衡NiSn相を含まない安定なすず-ニッケル合金膜を製造する方法を提供する。
非平衡NiSn相を含まないので、すずーニッケル合金膜を使用する際の摩耗や加熱などによる合金膜の特性変化を抑制することができ、この合金膜に付与した機能性を長時間に亘って維持することができる。
用途利用分野 装飾用クロムめっき代替めっき
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 鈴鹿工業高等専門学校, . 兼松 秀行, 増尾 嘉彦, 沖 猛雄, . すず-ニッケル合金膜の製造方法. 特開2002-180283. 2002-06-26
  • C25D   5/50     

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