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投影露光装置

シーズコード S100002663
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 堀内 敏行
  • 橋本 浩平
  • 武内 翔
  • 松岡 敏治
  • 佐々木 信夫
技術名称 投影露光装置
技術概要 原図基板9上のパターンを被露光試料1の側表面に投影露光する投影光学系12である。被露光試料1を中心軸回りに回転する回転ステージ21と、被露光試料1を回転ステージ21の回転軸と垂直の方向に移動し回転ステージ21の回転軸に対する被露光試料1の中心軸位置を調整する偏芯補正ステージを有する。また、場合によっては、被露光試料1の側表面の露光すべき位置を投影光学系12の光軸に垂直な方向に向ける傾斜ステージ76を設ける。
画像

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研究分野
  • 光学機器
  • 撮影,現像,焼付け,引伸し
展開可能なシーズ 円柱面状、角柱面状、円錐面状、角錐面状、鼓面状、樽面状、瓢箪面状などの側表面を持つ試料の側表面にパターンを投影露光する。被露光試料の側表面を高い生産性で露光でき、安価に量産に適用でき、かつ、被露光試料の側表面に高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供する。
投影露光なので走査露光に比して一度に広い面積を露光でき、露光所要時間を大幅に低減できる。このため、円柱面や円筒面をはじめとする被露光試料側表面上にパターンを高い生産性で露光することができる。また、X線近接露光で必要な高価なX線マスクを使用せず、ランプを光源として利用できるため、レーザ光走査露光に必要な強力で高価なレーザ装置も必要でないため、安価に被露光試料の側表面露光ができる。さらに、被露光試料1の表面に感光性材料を付して露光し、露光後現像を行うリソグラフィプロセスを想定して説明したが、現像を行わずに露光により感光性材料の性質を変化させることだけが必要な場合や、感熱性材料が見かけ上光に感応するのを利用したい場合などにも適用できる。
用途利用分野 光リソグラフィ、密着露光、近接露光、投影露光、走査露光、X線近接露光、レーザ光走査露光
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京電機大学, . 堀内 敏行, 橋本 浩平, 武内 翔, 松岡 敏治, 佐々木 信夫, . 投影露光装置. 特開2005-326796. 2005-11-24
  • G03F   7/24     

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