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露光方法

シーズコード S100002664
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 堀内 敏行
  • 橋本 浩平
  • 武内 翔
  • 松岡 敏治
  • 佐々木 信夫
技術名称 露光方法
技術概要 原図基板1上の繰り返しパターンを、被露光試料4の側表面に露光する。原図基板1上の繰り返しパターンを露光する工程と、被露光試料4の側表面が繰り返しパターンの1周期に相当する距離に露光光学系の倍率を乗じた距離または距離の整数倍だけ回転するように被露光試料4を回転させる工程とを含み、両工程を交互に繰り返す。このように、被露光試料4のほぼ同じ場所に露光時間を短くした露光を同じ回数ずつ加えて全周を露光する。被露光試料4が円柱面であるため露光領域内で露光面が部分的に結像面からずれることによるパターン光像強度分布の相違や、露光領域内で露光面が部分的に投影光学系に対して傾斜することによる露光面に当る光の角度の相違、によるパターン断面形状のばらつき、被露光試料1を軸回りに回転させる中心が、幾何学的中心とずれることに起因するパターン露光位置のばらつき、被露光試料4を軸回りに回転させる機構のガタや回転角の制御誤差などに起因するパターン位置のばらつきなど、パターンの位置やピッチの変動に影響を与える各種のばらつきが平均化され、誤差が相殺される。
画像

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研究分野
  • 光学機器
  • 撮影,現像,焼付け,引伸し
展開可能なシーズ 円柱面状、角柱面状、円錐面状、角錐面状、鼓面状、樽面状、瓢箪面状などの側面を持つ試料の側表面に、高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できると共に、被露光試料を回転させながら、繰り返し露光にする場合に、被露光試料の側表面に高い間隔精度でパターンを形成できる露光方法を提供する。
回転軸部品の表面の一部に軸方向のラインアンドスペースパターンを形成してエンコーダのマークとして利用し、出来上がったマークの通過数や通過時間間隔をカウントして該回転軸の回転速度や回転角度を計測すれば、通常よりも高精度で回転速度や回転角度を計測できるようになる。また、回転軸部品の側表面に空気軸受溝を作るのに利用すると、溝の位置間隔が均一になるため、全周の支持力を一様にすることができる。したがって、回転に同期した微振動の発生や回転軸を使用する機械の他部との共振が少なくなり、振動音の発生が少なくなる。
用途利用分野 光リソグラフィ、X線近接露光、レーザ光走査露光、投影露光装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京電機大学, . 堀内 敏行, 橋本 浩平, 武内 翔, 松岡 敏治, 佐々木 信夫, . 露光方法. 特開2005-331893. 2005-12-02
  • G03F   7/24     

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