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レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法

シーズコード S100002681
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 大越 昌幸
  • 井上 成美
  • 倉松 雅章
技術名称 レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法
技術概要 光学膜の屈折率制御方法は、光学使用を目的とした膜の原材料となる化合物、好ましくはSi-O-Si結合を含む化合物ターゲット2に、レーザー光5を照射し、アブレーションにより対向した基板3上に光学膜(SiO)を形成する場合に、光学膜の基板への堆積速度を変化させて光学膜の屈折率を制御する。又は、Si-O-Si結合を含む化合物にレーザー光を照射し、アブレーションにより対向した基板上にSiO2膜を形成する場合に、雰囲気酸素ガス圧を変化させて光学膜の屈折率を制御する。レーザーアブレーションを利用した光学素子形成方法は、基板上に異なる屈折率を有する複数層のSiO膜を形成する。基板材料は、例えば、高分子材料や生体材料、低融点材料、熱拡散しやすい材料等である。膜の堆積速度は0.02~0.1nm/パルスと低いため、レーザーパルスの積算数により、ナノメートルオーダーでの膜厚制御が可能であり、10-2オーダーでの屈折率制御が可能である。また雰囲気酸素ガスの圧力のみを変化させる場合も、10-1オーダーでの屈折率制御が可能である。
画像

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研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • 光導波路,光ファイバ,繊維光学
展開可能なシーズ 膜厚及び屈折率が制御された良質のシリカガラス(SiO)膜を、基板材料を選ばずに堆積、積層させて光学素子を形成する。
高分子フィルム基板上に膜形成を行った場合、光学素子としてフレキシブルな光インタコネクション素子も形成でき、フォトニクス分野に好適に利用可能である。
用途利用分野 光導波路素子、フレキシブル光インタコネクション素子
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 防衛装備庁長官, . 大越 昌幸, 井上 成美, 倉松 雅章, . レーザーアブレーションを利用した光学膜の屈折率制御方法及び光学素子形成方法. 特開2003-277918. 2003-10-02
  • C23C  14/28     

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