TOP > 技術シーズ検索 > 新規なルテニウム錯体を用いたアリル系保護基の除去方法及びアリルエーテル類の製造方法

新規なルテニウム錯体を用いたアリル系保護基の除去方法及びアリルエーテル類の製造方法

シーズコード S100003006
掲載日 2010年11月5日
研究者
  • 北村 雅人
  • 田中 慎二
  • 佐分 元
技術名称 新規なルテニウム錯体を用いたアリル系保護基の除去方法及びアリルエーテル類の製造方法
技術概要 アリル基の触媒的除去において、触媒としてα位に窒素原子を有する有機酸を配位子に有するシクロペンタジエニルルテニウム(CpRu)錯体を用いることにより、水素結合によってアリル基が著しく活性化され、求核性の極めて低いアルコールとでも反応可能となり、単一工程においてアリル基を効率的に除去することができる。錯体はα-イミノ酸型配位子又はα-アミノ酸型配位子を有するシクロペンタジエニルルテニウム(Ⅱ)錯体又は(Ⅳ)錯体である。α-イミノ酸型配位子はキナルジン酸又はピコリン酸であり、α-アミノ酸型配位子はプロリンである。このシクロペンタジエニルルテニウム(Ⅱ)錯体又は(Ⅳ)錯体存在下においてアルコールを含む溶媒中でアリルエーテル類、アリル炭酸エステル類及びアリルエステル類からアリル基を除去するアリル基の除去方法である。アリルエーテル類は式:RORで表される。式中、Rは(置換)アリル基を表し、RはCCHCH、2-インダニル等を表す。また、この錯体存在下で、非プロトン性溶媒中でアリルアルコールとアルコールの混合物から脱水反応によりアリルエーテル類を製造できる。
研究分野
  • 各種有機化合物の製造
  • 触媒操作
  • 有機化学反応一般
展開可能なシーズ 添加剤を使用せずに、高反応率及び官能基選択性において単一工程によるアリル基の除去を可能とするアリル基の触媒的除去方法、及びアリルアルコールとアルコールとから触媒的脱水アリル化反応によりアリルエーテル類を高効率で製造する技術を提供する。
アリル系保護基の除去並びにアリルエーテル類の製造において、温和な条件で高い反応性を示す新規なルテニウム錯体が提供され、触媒を添加する以外に余分な添加剤を要しない、アリル基の効率的な除去技術、並びにアリルエーテル類の効率的な製造技術が提供される。高反応率及び官能基選択性、工程の簡素化、経済性や環境調和性等の要請を充分満たすものであり、工業的にも極めて有効である。
用途利用分野 アリル基除去、アリルエーテル製造、有機合成技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人名古屋大学, . 北村 雅人, 田中 慎二, 佐分 元, . 新規なルテニウム錯体を用いたアリル系保護基の除去方法及びアリルエーテル類の製造方法. 特開2005-289977. 2005-10-20
  • C07F  17/00     
  • C07C  29/10     
  • C07C  33/025    
  • C07C  33/042    
  • C07C  33/22     
  • C07C  35/32     
  • C07C  37/055    
  • C07C  39/04     
  • C07C  41/09     
  • C07C  41/26     
  • C07C  43/166    
  • C07C  43/196    
  • C07C  67/29     
  • C07C  69/76     
  • C07D 213/79     
  • C07D 215/48     
  • C07D 217/26     
  • C07F   7/08     

PAGE TOP