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パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法

シーズコード S100003608
掲載日 2010年12月2日
研究者
  • 下村 政嗣
  • 藪 浩
  • 田中 賢
技術名称 パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法
技術概要 非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び/又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて、パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法である。この製造法は、ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を任意の部分で破壊することができる。レリーフパターンを構成する鋳型凸部にハニカム状多孔質体を押しつぶさせることによって鋳型のパターンをハニカム状多孔質体に転写させるか、又はレリーフパターンを構成する鋳型凸部の頂部と又はスリットからなるパターンを有する鋳型とハニカム状多孔質体とを接着させた後に鋳型とハニカム状多孔質体を剥離し、ハニカム状多孔質体の接着部分を鋳型と共に引き剥がすることにより鋳型のパターンをハニカム状多孔質体に転写させる。
画像

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研究分野
  • 高分子材料一般
  • 固体デバイス材料
  • 薄膜一般
展開可能なシーズ ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を任意のパターンで有する薄膜を製造する方法を提供する。
ハニカム状に整列したサブミクロン~ ミクロンサイズの空孔を有する多孔質体であるパターン化ハニカム状多孔質体は、破壊された部分のみに光を導波する導波路を有するフォトニック結晶として、また周期構造を保持した部分に培養細胞を限定して増殖させることができることから、パターン化された位置に細胞を培養することのできる基板としても利用可能である。
用途利用分野 パタ-ン化ハニカム状多孔質体、フォトニック結晶、細胞培養基板
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人北海道大学, . 下村 政嗣, 藪 浩, 田中 賢, . パターン化ハニカム状多孔質体の製造方法. 特開2007-112856. 2007-05-10
  • C08J   9/36     
  • B29C  59/02     

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