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Al-Si膜およびその形成方法

シーズコード S100003620
掲載日 2010年12月2日
研究者
  • 湯本 敦史
  • 山本 剛久
  • 廣木 富士男
  • 塩田 一路
  • 丹羽 直毅
技術名称 Al-Si膜およびその形成方法
技術概要 アルミニウムとシリコンとを含有するAl-Si膜である。この場合、アルミニウム又はアルミニウム合金のマトリクスと、マトリクス中に分散された、粒径が数~100nmであるシリコン微粒子とを有する。好ましくは、Al-Si膜の膜中の組成が傾斜した領域を有し、組成の傾斜に応じて硬度が0.65~5.9GPaで変化する。プラズマの使用又は加熱により生成されたシリコン微粒子とアルミニウム微粒子とを、超音速ノズル34から超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー(成膜チャンバー)30中に噴出して、真空チャンバー中に配置した基板33上に物理蒸着させて形成する。基板としては、例えば、1050アルミニウム合金板などを用いることができる。
画像

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研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • 金属薄膜
展開可能なシーズ アルミニウム系マトリクス中にシリコン相が微細に分散したAl-Si膜とその形成方法を提供する。
アルミニウム系マトリクス中にシリコン相が微細に分散し、靱性の低下を抑制したAl-Si膜を得ることができる。
用途利用分野 高耐磨耗性材料、自動車用材料、航空宇宙材料、切削道具
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) タマティーエルオー株式会社, . 湯本 敦史, 山本 剛久, 廣木 富士男, 塩田 一路, 丹羽 直毅, . Al-Si膜の形成方法. 特開2006-045616. 2006-02-16
  • C23C  14/14     

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