TOP > 技術シーズ検索 > 物理蒸着装置

物理蒸着装置

シーズコード S100003621
掲載日 2010年12月2日
研究者
  • 湯本 敦史
  • 丹羽 直毅
  • 廣木 富士男
  • 塩田 一路
  • 山本 剛久
技術名称 物理蒸着装置
技術概要 内部にプラズマトーチ16,26と、蒸発源15,25を有する蒸発チャンバー10,20と、超音速ノズル35と、成膜対象基板33とを有する成膜チャンバー30を有し、各プラズマトーチは、略円筒形の導電性のアノード40と、その内側に挿入された、ベークライトよりもアウトガスの少ない高分子系または非高分子系の絶縁管50と、絶縁管50の内側に挿入された棒状のカソード60と、を有する。そして、アノード40とカソード60及び/又は蒸発源15,25とに電圧印加してプラズマを形成する。このプラズマで蒸発源15,25から微粒子を生成し、超音速ノズル35から噴出して超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板33に物理蒸着させる。好ましくは、絶縁管が、石英、マシナブルセラミクス、ボロンナイトライド、アルミナ又はフッ素系樹脂からなる。
研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • プラズマ生成・加熱
展開可能なシーズ 超高真空環境でもアウトガスを発生させない非移行型のプラズマトーチを用いて生成させた微粒子を超音速のガス流により加速させ、基板に堆積させた微粒子により皮膜形成する物理蒸着装置を提供する。
超高真空環境でもアウトガスの発生を抑制でき、汚染されていない活性な表面を有する微粒子を堆積させることで緻密な膜を成膜することができる。
用途利用分野 高密度コーティング膜
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) タマティーエルオー株式会社, . 湯本 敦史, 丹羽 直毅, 廣木 富士男, 塩田 一路, 山本 剛久, . 物理蒸着装置. 特開2006-111921. 2006-04-27
  • C23C  14/32     
  • C23C  14/26     

PAGE TOP