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マイクロ・ナノパターン構造体及びその製造方法

シーズコード S100003706
掲載日 2010年12月2日
研究者
  • 田中 俊一郎
  • 三輪 紘敬
技術名称 マイクロ・ナノパターン構造体及びその製造方法
技術概要 このマイクロ・ナノパターン構造体は、基板10上に超微粒子によって構成される超微細パターン12を形成して得られる。この場合、この超微細パターンが、超微粒子によって、マスク24の裏面に対応する基板上に形成された膜状の接続部20と、マスクの細隙乃至は細孔に対応する基板部分が高エネルギービームによって穿孔されて形成された微細な孔部22とから構成されている。ここで、この超微粒子は、基板上に所定の空間を隔てて積層配置された、細隙乃至は細孔を有するターゲット材からなるマスクへの高エネルギービームの斜め照射によって離脱した、マスクの構成原子又は構成分子からなっている。基板としては、一般に、金属基板、非金属基板、有機材料基板等が用いられ、そのような基板の上に、目的とする超微細パターンが、マスク内壁面に対する高エネルギービームの斜め照射によって生じた超微粒子によって、効果的に形成されるのである。また、高エネルギービームは、イオンビームであることが望ましく、イオンビームの照射によって、超微粒子がマスクから効果的に発生せしめられて、超微細パターンが、有利に製造される。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス材料
  • 固体デバイス製造技術一般
  • プリント回路
展開可能なシーズ 超微粒子によって構成される連続的な超微細パターンが効果的に形成されてなるマイクロ・ナノパターン構造体と、それを有利に製造し得る方法を提供する。
基板を貫通する微細な貫通孔を備えた連続的な超微細パターンが、超微粒子により、マスクの形状等に応じた所望の形状において容易に形成されるので、微細な貫通孔を備えた連続的な超微細パターンを利用する超微細デバイスや超微細機能材料、超微細配線等として有利に使用可能なマイクロ・ナノパターン構造体が、極めて確実に且つ安定的に製造され得る。
用途利用分野 マイクロマシン、半導体回路
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 名古屋工業大学, . 田中 俊一郎, 三輪 紘敬, . マイクロ・ナノパターン構造体及びその製造方法. 特開2005-161465. 2005-06-23
  • B81C   5/00     
  • B23K  15/00     
  • B82B   1/00     
  • C23C  14/46     
  • H01L  21/285    
  • H01L  21/3205   
  • H01L  29/06     

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