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磁性薄膜の形成方法

シーズコード S100003826
掲載日 2010年12月3日
研究者
  • 森迫 昭光
  • 劉 小晰
技術名称 磁性薄膜の形成方法
技術概要 FePt1-xからなる磁性微小粒子が非磁性マトリックス中にドットアレイ状に形成された磁性薄膜の形成方法であって、Feと非磁性材からなるターゲットを用いたスパッタリングを施して、下地10上に、非磁性材からなるマトリックス24中にFeがドットアレイ22に形成された薄膜20を成膜する。次いで、薄膜20にPt30をスパッタリングし、ドットアレイ24に形成されたFeに選択的にPtを拡散させ、非磁性材からなるマトリックス24中に、FePt1-xからなるドットアレイ24aが形成された磁性薄膜を形成する。一般的な成膜方法として広く利用されているスパッタリング法を利用することによって、FePtがドットアレイ状に形成された磁性薄膜を形成することができる。スパッタリングによる成膜条件は適宜調節することが可能であり、磁気ディスク装置に用いるハードディスクの磁性薄膜として利用することも容易に可能である。また、形成されるFePtドットは数十nmといったナノレベルの微小粒として形成されるから、一平方インチあたり1テラビットという高密度記録を可能にする。
画像

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研究分野
  • 磁性材料
  • 電子・磁気・光学記録
  • スパッタリング
展開可能なシーズ 情報をきわめて高密度に記録することを可能にするとともに、簡単にかつ安価に製造でき、磁気記録媒体に好適に利用することができる磁性薄膜の形成方法を提供する。
磁性薄膜にきわめて微細構造の磁性粒子をドットアレイ状に形成することが可能となり、これによってきわめて高密度の情報を記録することができる磁性薄膜が得られる。
用途利用分野 磁気ディスク装置、ハードディスク
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人信州大学, . 森迫 昭光, 劉 小晰, . 磁性薄膜の形成方法. 特開2007-103568. 2007-04-19
  • H01F  10/14     
  • H01F  41/18     

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