TOP > 技術シーズ検索 > 真空吸着装置

真空吸着装置

シーズコード S100004284
掲載日 2010年12月7日
研究者
  • 宇根 篤暢
技術名称 真空吸着装置
技術概要 この真空吸着装置は、上面が同一平面上にある多数の突起2のみによって試料10を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔3を設けた真空吸着器14を備えている。この場合、真空排気孔に連通する真空吸着部1を、突起径の1/2以下の最大気孔径を有する多孔質セラミックス材料で作り、その上面に多数の微小突起を設けるとともに、この突起の高さを数μm程度の極めて低い高さに設定することにより真空吸着部と試料との間に微小隙間12を形成している。この真空吸着部は、数10~40%程度の気孔率を有する多孔質セラミックス材料からなる。また、突起は、高さが1μm~5μm程度であって、直径が10μm~200μm程度のガラス又は金属及び無機又は有機材料のような緻密な構造の他種材料により形成させることができる。また、最大気孔径が突起径の1/2以下の多孔質セラミックス材料からなる真空吸着部上に、突起を設けることによって、試料裏面との接触面積を極めて小さくし、ダストの影響を少なくすることが可能となるので、試料全面を容易に高精度の平面に矯正することができる。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_2003-115859.gif
研究分野
  • 真空ポンプ
  • 油圧・空気圧機器
展開可能なシーズ 突起のみによる支承であるにも拘らず試料を確実に吸着し、ダスト等の影響を受けないで試料を高い平面に矯正することができ、突起全てが欠けることはなく、突起の折損なども生じにくく、微小な多数の極めて高さの低い突起からなる真空吸着部をもつ真空吸着装置を提供する。
突起の上面と試料の裏面との接触面積が極めて小さいので、ゴミの影響を少なくすることが可能となり、試料全面を容易に高精度の平面に矯正することができる。また、突起の高さを極めて低く形成できるので、突起の強さを数倍も向上でき、耐久性を上げることができると同時に、極めてピッチの小さい一定間隔で並んだ突起の形成により200μmより薄い試料を変形することなく吸着することも可能になる。
用途利用分野 パターン転写装置、描画装置、検査測長装置、試料保持装置、試料搬送装置、LSI製造装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 防衛装備庁長官, . 宇根 篤暢, . 真空吸着装置. 特開2004-322218. 2004-11-18
  • B23Q   3/08     
  • B25J  15/06     
  • H01L  21/677    
  • H01L  21/683    

PAGE TOP