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立体形状測定及び分析装置

シーズコード S110005060
掲載日 2011年1月4日
研究者
  • 石丸 伊知郎
  • 兵頭 亮治
技術名称 立体形状測定及び分析装置
技術概要 低コヒーレンス性の白色光を使用するため、両光路の長さが完全に一致した場合に限り、両光路からの光の位相が必ず一致し、その結像点における干渉光の強度が増大して強いピークが現れるが、そうでない場合は、必ず何らかの位相ズレが生じ、そのような強い強度が現れない。従って、位相可変フィルタ20の可動反射部を或る出発点から徐々に移動させてゆくと、結像点において測定される干渉光の強度(インターフェログラム)は、或る1点においてのみ高いピークを示し、その他の点で強度が低いものとなる。このインターフェログラムのピークを現出した時点の可動反射部の位置が、被測定物Sの対象点の光軸方向の位置(正確には、出発点と可動反射部の間の距離)に対応する。従って、被測定物Sの像を構成する各点についてインターフェログラムのピークを検出し、その点における可動反射部の位置を参照することにより、被測定物Sの立体形状を測定することができる。
画像

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研究分野
  • 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器
  • 光学的測定とその装置一般
展開可能なシーズ ナノメートルオーダーからマイクロメートルオーダーの広範囲の大きさを有するような、光の波長以上の大きさのものである被測定物の立体形状を高速且つ容易に測定することができ、被測定物の分析も可能となる光プローブ方式による立体形状・分析測定技術を提供する。
大きな範囲で立体形状を測定することができるとともに、機械的に走査する場合と比較すると極めて短時間で測定を行うことができる。また、非接触で測定を行うため、非常に柔らかい物でも測定を行うことができるとともに、被測定物の硬さに左右されることなく客観性の高い、再現性の良い測定を行うことができる。加えて、上述従来の装置のように単色光の干渉強度に基づいて測定を行うものではないため、測定光の波長以上の大きさの立体形状をも測定することができる。
用途利用分野 原子間力顕微鏡、微分干渉計、マイケルソン干渉計、半導体製造装置検査
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 株式会社テクノネットワーク四国, . 石丸 伊知郎, 兵頭 亮治, . 立体形状測定及び分析装置. 特開2005-241493. 2005-09-08
  • G01B  11/24     

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