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偏光回折素子を用いた機械駆動不要な偏光解析システム

シーズコード S110005154
掲載日 2011年1月4日
研究者
  • 小野 浩司
  • 畑山 晃
  • 佐々木 友之
  • 江本 顕雄
  • 川月 喜弘
技術名称 偏光回折素子を用いた機械駆動不要な偏光解析システム
技術概要 機械駆動部を要しない偏光解析システムを提供するために、設計された光学的異方性を有する回折格子と回折光を検出する計測素子からなるシステムであって、周期的に変化した固定化された分子配向構造を有する重合層を含む回折格子素子と、回折格子素子からの回折光強度を測定する検出素子とを含む。重合層がメソゲンを含む高分子層からなり、このメソゲンが周期的に分子配向した構造を有している回折格子素子である。回折格子を形成する高分子材料としては光学的透明性と充分な分子配向と光学的異方性を発現するものであれば良いが、側鎖にメソゲンを有する高分子液晶を用いることによって、材料の液晶性を利用して、高度に配向した状態を形成でき、大きな光学的異方性を発現することができる。さらに好ましくは、高分子層が側鎖に光架橋性のメソゲンを有する高分子液晶であってそのメソゲン末端に光反応性基を有することによって、偏光を用いた分子配向プロセスによって微細な周期配向構造を形成できるだけでなく、架橋構造を取ることによって光素子として応用する際に必要な耐熱性を確保することが可能となる。
画像

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研究分野
  • 偏光測定と偏光計
展開可能なシーズ 測定の高速化や解析システムのコンパクト化を実現し、高密度光記録システムや高速なエリプソメトリーに応用するために、偏光回折素子の回折特性を応用し、偏光子の回転機構などの機械駆動を含まない偏光解析システムを提供する。
周期的分子配向構造を有する光学的に透明な高分子層を用いること、さらに光反応性高分子液晶を用いることで、メソゲン配向に伴う大きな屈折率異方性による高機能化と高い耐熱性を発現できる。機械駆動部を要しない偏光解析システムが得られる。
用途利用分野 光磁気記録システム、ホログラム記録、エリプソメトリ、フォトレジスト、マスク露光法、レーザービーム描画法、干渉露光法
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人長岡技術科学大学, . 小野 浩司, 畑山 晃, 佐々木 友之, 江本 顕雄, 川月 喜弘, . 偏光解析システム. 特開2007-121235. 2007-05-17
  • G01J   4/04     
  • G02B   5/18     
  • G02B   5/30     

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