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硬質膜の製造方法およびゾル

シーズコード S110005232
掲載日 2011年1月11日
研究者
  • 西出 利一
技術名称 硬質膜の製造方法およびゾル
技術概要 有機酸と無機酸とハフニアおよび/またはジルコニアとを含むゾルであり、ゾル中のハフニウムおよび/またはジルコニウム1モルに対して有機酸の存在量が0.1~20モルである。このゾルを基材に塗付し、相対湿度50~100%の雰囲気下、温度が0~100℃で、時間が1~120時間存置させる硬質膜の製造方法である。有機酸としては、カルボキシル基を有する有機酸が好ましく、かつ炭素数3以下の有機酸が好ましい。例えば、好ましい有機酸として、ギ酸、酢酸、シュウ酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、シュウ酸、マロン酸などを挙げることができ、フッ素を含む有機酸でもよい。中でも、ギ酸、酢酸、シュウ酸が特に好ましい。また、無機酸としては、塩酸、硝酸、リン酸および硫酸などを挙げることができ、好適な無機酸は、塩酸、硝酸および硫酸である。無機酸の含有量は、ハフニウムおよび/またはジルコニウム1モルに対して、0.1~100モルが好ましい。
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研究分野
  • 反応操作(単位反応)
  • 薄膜成長技術・装置
展開可能なシーズ プラスチック、金属などの表面保護等に有効な硬質膜であって紫外線照射や高温処理を必要としないで高い硬度を持つ硬質膜の製造方法およびこの硬質膜の製造方法に好適に使用できるゾルを提供する。
基材に容易に塗布でき、均質で高い硬度を有する薄膜を形成でき、薄膜は、高い硬度に加えて優れた撥水性を有する。硬質膜の製造方法は、ゾル-ゲル法を利用しているために塗膜形成に大規模な設備を必要とせず、塗膜の硬化に、紫外線照射設備や加熱設備などを必要としない。また、ハフニウムおよび/またはジルコニウムと有機酸および無機酸とで形成され、容易に製造でき、安定性にも優れている。
用途利用分野 表面保護用硬質膜形成材
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人日本大学, . 西出 利一, . 硬質膜の製造方法. 特開2007-320776. 2007-12-13
  • C01G  25/02     
  • C01G  27/02     
  • C09D 185/00     
  • C09D   7/12     
  • C09D   1/00     

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