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蛍光X線顕微鏡

シーズコード S012000120
掲載日 2002年1月29日
研究者
  • 桜井 健次
研究者所属機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
研究機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
技術名称 蛍光X線顕微鏡
技術概要 この技術は、X線撮像分析の方法と装置に関するものであって、対象とする物質の表面や薄膜の界面などに存在するさまざまな元素の位置分布を高精度かつ短時間で撮像することができる。新しいX線撮像分析方法および装置に関するものであって、撮像の対象である蛍光X線は、例えばX線を全反射臨界近傍の浅い角度で物質表面に入射させたばあい、また電子線やイオンビームなどの粒子線をX線の全反射のばあいと同じ程度の浅い角度で物質界面に入射させたばあいにおいて、物質の表面近傍から発生する。さらに、物質表面にラジオアイソトープが吸着または意図的にラベルされたときにも、そのラジオアイソトープから自発的に蛍光X線が放出される。このような新しいX線撮像分析方法および装置によって分析技術の著しい高度化が達成され、結果として、製造プロセスの改善を促し、各種産業における高品位の工業製品の生産の実現を図ることができるものである。
画像

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従来技術、競合技術の概要 従来より、X線を用いて物質の表面の分析を行なう方法としては、例えば全反射蛍光X線分析法がある。このような全反射蛍光X線分析法では、X線を1~10mradの浅い角度で入射させるため、試料上の照射面積、特にX線光軸方向については、広くなるという問題があった。例えば入射X線を試料の直前において40μm幅のスリットにより制限して、2mradで入射させると、試料上で20mm幅に広がる。このことは表面元素の位置分析が困難になるということを意味している。
研究分野
  • 金属薄膜
  • 物理分析
  • 金属,合金の物理分析
展開可能なシーズ (1)蛍光X線顕微鏡
用途利用分野 生物、鉱物、材料の観察
工業材料のオンライン管理と評価
関連発表論文 (1)桑島修一郎, 吉田郵司, 安部浩司, 谷垣宣孝, 八瀬清志, 長沢浩, 桜井健次. X線反射率測定による銀ナノ微粒子多層膜の構造評価. 電子情報通信学会技術研究報告. vol.100,no.400(OME2000 128‐140),2000,p.13‐16.
(2)桜井健次. 分析試験法編 12 広域X線吸収微細構造(EXAFS)法. ふぇらむ. vol.4,no.5,1999,p.294‐300.
(3)桜井健次. X線全反射現象における干渉効果に着目した薄膜界面の高感度蛍光X線分析. SR科学技術情報. vol.6,no.2,1996,p.2‐7.
(4)桜井健次. SR斜入射蛍光X線/反射率法 新しい薄膜のキャラクタリゼーション法. 日本金属学会会報. vol.32,no.5,1993,p.323‐330.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . 桜井 健次, 江場 宏美, . X線撮像分析方法および装置. 特開2000-055842. 2000-02-25
  • G01N  23/223    
  • G01T   7/00     

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