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鏡面溝形成方法

シーズコード S110005681
掲載日 2011年1月14日
研究者
  • 池野 順一
技術名称 鏡面溝形成方法
技術概要 鏡面溝形成方法では、常温より低い温度に冷却した結晶化ガラス20にレーザ18を照射して照射箇所の結晶化ガラス20を非晶質に変質させ、非晶質化した部分22を剥離させて溝21を形成する。この方法では、結晶化ガラス20に変態応力と熱応力とが作用して非晶質化した部分22が剥離し、溝21が形成される。結晶化ガラスとしてLi2O-Al2O3-SiO2系低膨張結晶化ガラスを使用する。この場合、レーザ光18が照射された位置の試料20が非晶質化し、この非晶質部分22が剥離して鏡面の溝21が残される。非晶質部分22の剥離は、レーザ照射後数秒から数十秒が経過すると自然に生じる。剥離が自然に開始しないときは、針や指で軽く衝撃を与えたり、超音波を当てると剥離する。このように、材料が変質し膨張係数が極端に大きく変化することから生じる応力(変態応力)と熱応力とが作用して非晶質部分の剥離が発生し、それにより溝ができる。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 微細な鏡面溝を手軽に形成することができる鏡面溝形成方法を提供する。
大掛かりな装置を必要とせず、マイクロ化学チップなどの装置を短時間で、安価に製作することができる。
用途利用分野 マイクロ化学チップ
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 埼玉大学, . 池野 順一, . 鏡面溝形成方法. 特開2007-230798. 2007-09-13
  • C03C  23/00     
  • B23K  26/00     
  • C03B  33/02     

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