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垂直・水平プロセッサ

シーズコード S110005973
掲載日 2011年10月6日
研究者
  • アニルバン・バンディオパダヤイ
  • 三木 一司
技術名称 垂直・水平プロセッサ
技術概要 このプロセッサは、2つのテンプレート、すなわち、一方は情報処理面ユニット101と、他方はユニットと向き合った垂直電極アレイ・ユニット102を持っている。それぞれの垂直電極103と水平電極104からのケーブルは、情報処理面105または収集面106からの信号入力または信号出力のために、結束して出る。情報処理面は、ニューロン107を持っており、また、垂直電極は、これらのニューロンからトンネル距離だけ離れた所にある。情報処理面と電極との間には、トンネリングをまったく確証しない間隔108が確保されており、更に、そのアースも、信号出力部109に接続されている。我々は、水平面上に電界分布を作り出す必要がある。それゆえ、外部の電極厚さd1(201)は、水平導電面d2(202)の厚さよりも厚くなければならない。金属電極面と基板とを組み合わせたものは、使用されるニューロンの種類、更に、この構造物を製造するのに用いられる技術にも左右される。一例として、我々は、化学蒸着法によりSi基板203にSiOを被着させる(204)。
画像

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研究分野
  • ニューロコンピュータ
展開可能なシーズ 現実的なニューラル・モデル(一組の要領またはルール)と、この提案されたニューラル・モデルを考慮に入れて、脳の動作原理に基づいて動作できるデバイス(プロセッサ)を原則として作り上げることである。
モデル・デバイスは単純であるが、ニューラル・ネットワークのHopfieldモデルよりも新しい特徴が追加されて、われわれの脳の神経系統の情報処理の利点を弱めることなく、実験的に実現することができる。一例として、このモデル・デバイスは、論理ゲートを必要としない。また、このモデルは、使用される材料、その基本動作パラメータを破壊せずに原則として複雑な集積回路に用いられる演算エリアの寸法制約に対して柔軟性がある。
用途利用分野 垂直・水平プロセッサ、垂直プロセッサ
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . アニルバン・バンディオパダヤイ, 三木 一司, . 垂直・水平プロセッサ. 特開2007-226762. 2007-09-06
  • G06N   3/063    
  • G06N   3/04     
  • G06N   3/08     

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