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ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法

シーズコード S110006097
掲載日 2011年11月4日
研究者
  • 山本 隆一
  • 福元 博基
  • 麻生 隆浩
技術名称 ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法
技術概要 図に示す重合手順において、窒素雰囲気下、bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0)(0.60g,2.18mmol)にdryDMF(15.0mL),bipyridine(0.34g,2.18mmol),1,5-cyclooctadiene(267μL,2.18mmol)を加え、さらに2,7-Dibromo-trans-9,10-dihydro-9,10-bis(tributylsilyloxy)phenanthrene(0.75g,0.98mmol)のdryDMF(5mL)溶液を加え60℃で4日間攪拌する。臭化水素酸でquenchした後、メタノール、EDTA-4Naaqで2度再沈殿を行い、乾燥することで青色固体である高分子(0.58g,0.96mmol,96%)を得る。高分子はクロロホルム、THF,トルエンに可溶である。
画像

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研究分野
  • 単独重合
展開可能なシーズ ジハロゲン化物、ジハロゲン化高分子化合物、及びその製造方法に関し、特定構造を主鎖内に有するジハロゲン化物、高分子化合物、及びジハロゲン化物を出発原料として、4,4’-ジブロモ-ビフェニル-2,2’-ジカルバルデヒドなどに、四塩化チタンと亜鉛を加えることを特徴とする高分子化合物の製造方法を提供する。
電気化学的に活性で、熱安定性を有し蛍光性を有し、かつ、溶解性の高いジハロゲン化高分子化合物が得られる。可溶化させるための適切な置換基を導入した機能性材料としての用途が期待できる高分子化合物が得られる。
用途利用分野 ジハロゲン化物、ジハロゲン化高分子化合物、ジハロゲン化物製造技術、ジハロゲン化高分子化合物製造技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人東京工業大学, . 山本 隆一, 福元 博基, 麻生 隆浩, . ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法. . 2007-10-18
  • C08G  61/10     
  • C07F   7/18     
  • C07C  29/00     
  • C07C  35/37     

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