TOP > 技術シーズ検索 > 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法

中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法

シーズコード S012000219
掲載日 2002年1月29日
研究者
  • 高井 治
研究者所属機関
  • 名古屋大学
研究機関
  • 名古屋大学
技術名称 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法
技術概要 セラミック多孔体は吸着や分離などのさまざまな分野における応用が期待されている。
本技術は、低温条件下におけるナノメートルスケール細孔構造を持つ多孔体の製造に関するものである。界面活性剤の分子集合体を鋳型として用い、セラミックあるいは該セラミック前駆体の微小粉末とを混合して、界面活性剤などの集合体の周囲に同セラミック微粉などを付着させた無機-有機構造を有するセラミックス前駆体を形成する。この前駆体中の界面活性剤に真空紫外光など照射して、光酸化により界面活性剤を分解除去することで、無機骨格のみからなるナノメートルスケールの中空構造を有するセラミックス多孔体を200℃以下の低温において製造する事が出来る。この方法では内部応力の発生が無く、クラックや剥離などを起すことが無い。また、プラスチックなど耐熱性に劣る材料表面へのセラミックス多孔体の作製が可能である。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

S012000219_01SUM.gif
従来技術、競合技術の概要 本技術と同様に、界面活性剤などを鋳型として無機-有機構造体を有する前駆体を形成し、中の界面活性剤などを除去してセラミック多孔体を製造する方法があるが、活性剤などの除去を加熱処理などにより行っていたため、材料内部に応力が発生し、クラック、剥離などの不具合現象が発生し、またプラスチックなどの耐熱性に劣る基体材料へのコーテイングは不可能であった。
研究分野
  • 吸着剤
展開可能なシーズ (1)ナノメータスケール多孔質体
用途利用分野 各種センサをはじめとするセラミックス関連産業分野
レーザーを含む光学材料や電子部品などの電子・光産業分野
各種分離材、触媒などの化学産業分野
関連発表論文 (1)穂積篤, 横川善之, 亀山哲也, 平工勝政, GOMEZ‐VAGAJ M, 杉村博之, 高井治. 真空紫外光を用いたメソポーラスシリカのフォトカルシネーション 有機テンプレートの低温除去. 日本セラミックス協会年会講演予稿集. vol.2000,2000,p.33.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人名古屋大学, . 高井 治, 杉村 博之, 穂積 篤, . 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法. 特開2001-080976. 2001-03-27
  • C04B  38/06     
  • B01J  13/02     

PAGE TOP