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光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒 新技術説明会

シーズコード S110006285
掲載日 2011年11月16日
研究者
  • 中村 修一
  • 柴田 哲男
  • 辻 幸太郎
技術名称 光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒 新技術説明会
技術概要 [TolSO2-Phebim]Br(150mg,0.166mmol)、及びビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)(50mg,0.182mmol)を30mLナスフラスコに入れ、ベンゼン(7mL)に溶解させる。その後、溶液を2時間還流させ、ベンゼンを減圧下で留去する。次にジクロロメタンを加え不溶物を濾別し、ろ液を減圧下で濃縮する。得られた固体をベンゼンで洗浄、クロロホルム/ヘキサンにて再結晶を行い、図に示す光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒[TolSO2-Phebim]NiBr(66.9mg,41.8%)を得る。
画像

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thum_2009-034366.GIF
研究分野
  • 触媒の調製
展開可能なシーズ 光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒および光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体製造方法を提供する。
簡便に入手可能な光学活性ジアミン類からビスイミダゾリン誘導体を合成し、反応性、立体選択性のチューニングを行なうために窒素上にいくつかの置換基を導入し、触媒分子中の環境の調製、触媒反応性の増大、立体選択性の向上が行なえる新規触媒が得られる。
用途利用分野 光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒、光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒製造システム
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 名古屋工業大学, . 中村 修一, 柴田 哲男, 辻 幸太郎, . 光学活性フェニルビスイミダゾリン-遷移金属錯体触媒およびそれを用いて高エナンチオ選択的に生成物を得る方法. 特開2010-188267. 2010-09-02
  • B01J  31/22     

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