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スフェロイド含有ハイドロゲルおよびその製造方法、ならびにスフェロイド含有ハイドロゲル積層体

シーズコード S110006510
掲載日 2011年11月25日
研究者
  • 大塚 英典
  • 里見 智美
  • 上野 耕治
  • 山本 雅
  • 中曽根 佑一
技術名称 スフェロイド含有ハイドロゲルおよびその製造方法、ならびにスフェロイド含有ハイドロゲル積層体
技術概要 ハイドロゲルと、ハイドロゲル内に、互いに接触しないように配置され、直径70μm~400μmの均一な大きさを有する2以上のスフェロイドと、を含むスフェロイド含有ハイドロゲルである。ハイドロゲルは、末端に重合性置換基を有するポリアルキレングリコール基の4以上とポリアルキレングリコール基と結合する4価以上の連結基とを有し、重量平均分子量が10000以上のハイドロゲル形成用マクロモノマーに由来する高分子化合物を含む。ハイドロゲル形成用マクロモノマーは、重合度が50~5000のポリアルキレングリコール基を4以上有する。重合性置換基はエチレン性不飽和結合を有する。スフェロイド含有ハイドロゲルの2以上が積層されたスフェロイド含有ハイドロゲル積層体を含む。
研究分野
  • 細胞・組織培養法
展開可能なシーズ 内包される2以上のスフェロイドが互いに接触しないように配置された機能維持性が良好なスフェロイド含有ハイドロゲルおよびその積層体、ならびに、均一な大きさを有する複数のスフェロイドを含有するハイドロゲルの効率的な製造方法を提供する。
均一な大きさを有する複数のスフェロイドを含有するスフェロイド含有ハイドロゲルが効率よく作製できる。ハイドロゲル中のスフェロイドの大きさを特定の範囲とすることでスフェロイドの機能維持性が良好になる。
用途利用分野 スフェロイド含有ハイドロゲル、スフェロイド含有ハイドロゲル積層体
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京理科大学, . 大塚 英典, 里見 智美, 上野 耕治, 山本 雅, 中曽根 佑一, . スフェロイド含有ハイドロゲルおよびその製造方法、ならびにスフェロイド含有ハイドロゲル積層体. 特開2010-065082. 2010-03-25
  • C12M   3/00     
  • C12N   1/04     
  • C08L 101/14     
  • C08L  55/00     
  • C08F 299/02     
  • C08G  65/332    
  • C12N  11/08     

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