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気体分離膜

シーズコード S110006520
掲載日 2011年11月25日
研究者
  • 永井 一清
  • 森里 敦
  • 野崎 貴司
技術名称 気体分離膜
技術概要 ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン、ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン、及び、ヒドロシリル化触媒を含む有機溶媒溶液を用いてヒドロシリル化反応を一部進行させ、有機溶媒溶液を増粘させる工程、増粘させた有機溶媒溶液をオルガノポリシロキサン濃度が6重量%以下の希薄溶液に調整する工程、希薄溶液を多孔質支持体膜上に膜状に塗布する工程、さらにヒドロシリル化反応を行う工程、並びに、有機溶媒を除去しオルガノポリシロキサン架橋膜を得る工程をこの順で含み、オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、図に示すようにオルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上であるオルガノポリシロキサン架橋膜を製造する。
画像

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研究分野
  • 高分子と低分子との反応
  • 膜分離
展開可能なシーズ ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量が1,500~8,000である気体分離膜として用いられるオルガノポリシロキサン架橋膜の製造方法を提供する。
厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜が提供され、オルガノポリシロキサン架橋膜を容易に製造することができ、架橋膜の厚さが1μm以下することで、気体の透過速度を増加させることができ、効率的な気体分離システムを構築することができる。
用途利用分野 オルガノポリシロキサン架橋膜、気体分離膜、オルガノポリシロキサン架橋膜製造技術、気体分離膜製造技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人明治大学, . 永井 一清, 森里 敦, 野崎 貴司, . 気体分離膜. 特開2008-055256. 2008-03-13
  • B01D  71/70     
  • B01D  69/10     
  • C08J   5/18     
  • C08J   3/24     
  • C08G  77/48     

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