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被膜生成方法および被膜生成装置

シーズコード S110006718
掲載日 2011年12月5日
研究者
  • 甲藤 正人
  • 東口 武史
  • 窪寺 昌一
  • 横谷 篤至
技術名称 被膜生成方法および被膜生成装置
技術概要 被膜生成装置1は球状のチェンバー2を有し、チェンバー2内の蒸散室3の中央部には蒸散領域(プラズマ発生領域)3aが設定されている。外部接続部2hには蒸散室3を真空状態に排気する真空ポンプ4が接続され、外部接続部2eには真空排気された蒸散室3内に還元ガスを供給する還元ガス供給装置(反応材供給装置)5が接続されている。外部接続部2aには液体ターゲット供給装置6が接続され、被膜原料を含む被膜原料溶液が貯留されたターゲット溶液タンク6aと、そこから蒸散室3の蒸散領域3aの上方まで延びる供給ノズル6bとを有する。外部接続部2bには液体ターゲット回収装置7が接続され、外部接続部2cにはレーザー光導入窓8が形成されており、その外部にはレーザー光源装置9および集光レンズ10とが配置されている。外部接続部2gには基板交換装置11が支持されている。被膜生成装置1では、蒸散領域3aに連続的に供給される液体ターゲットTにレーザー光Lが照射されて、液体ターゲットT中の被膜原料が蒸散する。蒸散した被膜原料は、蒸散領域3aに対向して配置された基板12の表面に付着、堆積して被膜原料を含む被膜が生成される。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
  • 固体デバイス材料
展開可能なシーズ 長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にすることを第1の技術的課題とし、また、高品質、大面積の被膜を生成することを第2の技術的課題とする。
固体ターゲットを使用する従来技術に比べ、ターゲットが削れたり、減ったりすることがなく、長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にできるとともに、基板に高品質、大面積の被膜を生成することができる。
用途利用分野 被膜生成装置、蒸散室、液体ターゲット供給装置、被膜形成基板、シリコン基板
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 宮崎大学, . 甲藤 正人, 東口 武史, 窪寺 昌一, 横谷 篤至, . 被膜生成方法および被膜生成装置. 特開2007-314825. 2007-12-06
  • C23C  14/28     
  • C23C  14/22     

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