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有機単分子膜成膜装置及び該方法

シーズコード S110006750
掲載日 2011年12月5日
研究者
  • ▲桑▼島 修一郎
  • 石田 謙司
  • 堀内 俊壽
  • 松重 和美
技術名称 有機単分子膜成膜装置及び該方法
技術概要 この有機単分子膜成膜方法では、蒸着流の発生している蒸着中でも、坩堝16と基板Bとの間に遮蔽板15が在ることであり、基板Bが冷却されていることである。蒸発して飛び出した蒸着原料Aの有機単分子は、遮蔽板15を回り込んで、遮蔽板15より温度の低い基板Bを選択し、基板Bの表面に到達した有機単分子は、基板Bとの相互作用により吸着して分子鎖が基板Bに略垂直な向きに配向した有機単分子膜を形成する。蒸着レートは、膜厚計14によってモニタされ、所定値となるように加熱源17の温度が調整される。膜厚計14によって基板Bに有機単分子膜が形成されたと判断すると、有機単分子膜の成膜を終了し、加熱源17の加熱を停止し、そして、冷却源12の冷却を停止する。成膜の終了後、真空チャンバ11内を真空に保持した状態で基板Bを自然に昇温させ、基板Bの温度が略室温に達した後に、有機単分子膜を成膜した基板Bを真空チャンバ11から取り出す。このように有機単分子膜成膜装置1を用いることによって、真空中において、基板Bに有機単分子膜を成膜することができる。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 真空中で蒸着原料を蒸発させ基板に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置及び有機単分子膜成膜方法を提供する。
この構成の有機単分子膜成膜装置及び方法によれば、真空中において基板上に有機単分子膜を成膜することができる。そして、この構成の有機単分子膜成膜装置及び方法は、真空下で有機単分子膜を成膜することができるので、有機単分子膜を備える電子デバイスを真空下で一貫して製造することができる。
用途利用分野 有機単分子膜成膜装置、電子デバイス、フッ化ビニリデン単分子膜、単分子膜面内X線回折測定装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人京都大学, . ▲桑▼島 修一郎, 石田 謙司, 堀内 俊壽, 松重 和美, . 有機単分子膜成膜装置及び該方法. 特開2007-031812. 2007-02-08
  • C23C  14/12     
  • C23C  14/24     

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