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光パターニング材料および光パターン形成方法

シーズコード S110006909
掲載日 2011年12月8日
研究者
  • 高原 茂
技術名称 光パターニング材料および光パターン形成方法
技術概要 基板2として、シリコンウエハーを用意し、これにビリルビンの1.3wt.%ジメチルスルフォキシド(DMSO)溶液を滴下し、スピンコート法により製膜した。触針式膜厚計(アルファステップ)により膜厚を測定したところ、4500rpm回転の条件でおよそ30nmのビリルビン薄膜1が得られた。これを、常温または100℃以下で乾燥した。この薄膜の紫外-可視スペクトルを測定すると400nm-500nmに大きな光吸収を示した。これは可視光源、例えば通常のランプ以外にもアルゴンイオンレーザーや半導体レーザーによっても感光させることが可能であることを示す。該ビリルビン薄膜1に、ラインアンドスペースのパターンマスク4を通して、キセノンランプ(光強度350mJ/cms)で20分間露光した後、0.02wt.%のテトラメチルアンモニウムハイドロキシド水溶液を用いて、30秒間ディップ現像するとポジ型のパターンが形成できる。
画像

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研究分野
  • 光学情報処理
  • 感光材料
展開可能なシーズ 生体物質に親和性があり、かつ温和な反応条件で、光によるパターニングを可能にする光パターニング材料および光パターン形成方法を提供する。
少なくとも、ビリルビンまたはビリルビン誘導体を用いる感光性薄膜は、薄膜中に従来技術のような反応性の高いラジカルや酸、塩基など発生する光開始剤を特に必要とせず、露光した部分の水またはアルカリ溶液における溶解度が向上し、パターン形成が可能である利点がある。
用途利用分野 光パターニング材料、フォトリソグラフィー材料、ビリルビン、ビリルビン誘導体、感光性薄膜
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 千葉大学, . 高原 茂, . 光パターニング材料および光パターン形成方法. 特開2007-033472. 2007-02-08
  • G03F   7/004    
  • H01L  21/027    
  • C07D 207/44     

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