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原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置

シーズコード S110006921
掲載日 2011年12月8日
研究者
  • 川原村 敏幸
  • 西中 浩之
  • 藤田 静雄
  • 谷垣 昌敬
技術名称 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置
技術概要 原料ガス供給管11又は原料ガス供給管12からのみ原料ガスが供給される場合は、原料ガス供給管を介して原料ガス供給口7a又は原料ガス供給口8aから、ガスたまり部9の内部空間9aへと供給される。原料ガスが内部空間9aから、整流されながら原料ガス噴出部10における導出部10bへと流入し、開口部10aを介して化学的気相成膜装置の成膜室内に設置された基板14へ噴出される。噴出原料ガス中の成膜成分である微粒子は、予熱された基板14面上で加熱され熱分解し、基板14上に付着して成膜される。次に、原料ガス供給管11、12の両方から原料ガスが供給される場合は、予熱されている原料ガスが、原料ガス供給管を介して原料ガス供給口7a及び原料ガス供給口8aから、ガスたまり部9の内部空間9aへと供給されて、内部空間9a内で衝突混合する。衝突混合した原料ガスが内部空間9aから、原料ガス噴出部10における導出部10bへと流入し、開口部10aを介して化学的気相成膜装置の成膜室内に設置された基板14へ噴出される。噴出原料ガス中の成膜成分である微粒子は、予熱された基板14面上で加熱され熱分解し、基板14上に付着して成膜される。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
  • 固体デバイス材料
展開可能なシーズ CVD法によって基板に膜を形成するのに用いられた際、基板表面に生成される膜の表面粗度が低く、大型基板の成膜にも用いることができるエアロゾル浮遊ガスにも適用が可能な原料ガス噴出用ノズル、及び、これを備えた化学的気相成膜装置を提供する。
開口部から原料ガスを基板の幅方向全体に対して均等に噴射できるので、CVD法によって基板に膜を形成するのに用いた際、基板表面に生成される膜の表面粗度が中心から端部に至るまで非常に低く、大型基板の成膜にも適用できる原料ガス噴出用ノズルを提供できる。また、流路途中に内部壁面以外有しないように形成されている場合には、開口部から噴出される原料ガス中のエアロゾル濃度がどの部分でもほぼ一定となる。原料ガス供給口の総断面積Sと開口部の断面積Sとが、1≦S/S≦4の関係を有しているので、ガスだまり部内の圧力を開口部外部と同等或いはより高く制御でき、常温でも、開口部外部に原料ガスを安定して供給できるとともに容易に整流できる。
用途利用分野 原料ガス噴出用ノズル、化学的気相成膜装置、原料ガス供給ノズル、噴射ノズル、エアカーテン
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人京都大学, . 川原村 敏幸, 西中 浩之, 藤田 静雄, 谷垣 昌敬, . 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置. 特開2007-254869. 2007-10-04
  • C23C  16/455    
  • B05B   1/04     

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