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NaCl型炭化ケイ素の製造方法

シーズコード S110006952
掲載日 2011年12月12日
研究者
  • 野田 哲二
  • 荒木 弘
  • 鈴木 裕
技術名称 NaCl型炭化ケイ素の製造方法
技術概要 孔径が0μmより大きく1μm以下で柱状の細孔1が形成された中空体2の細孔1内にクロロシラン3を流通させる。クロロシラン3の流通は、1Torr~100Torrの減圧下で行い、キャリヤーとして水素ガス、アルゴンガス等を使用することができる。クロロシラン3は、中空体2の下方から上方へと導くことができる。クロロシラン3としては、メチルクロロシラン、エチルクロロシラン等が例示され、クロロシラン3は炭化水素を含有するものであってもよい。中空体2は、たとえば、薄膜を所定間隔で離間配置し、柱状の細孔1が形成され、このような中空体2は電気炉内に配置し、クロロシラン3を流通させながら温度900℃~1300℃の温度に加熱する。クロロシラン3は中空体2の細孔1内で熱分解し、炭化ケイ素が生成し、図に示すように、中空体2の内壁にNaCl型の炭化ケイ素4が析出する。熱分解に必要な温度は900℃~1300℃の範囲が適当であり、この範囲からはずれるとクロロシラン3の分解効率が低下する。
画像

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研究分野
  • 無機化合物の結晶成長
展開可能なシーズ より高性能であると見込まれるNaCl型炭化ケイ素を容易に製造することのできるNaCl型炭化ケイ素の製造方法を提供する。
高温、高圧を用いず、クロロシランの熱分解という簡便な手法で高密度のNaCl型炭素ケイ素を製造することができる。低コストのクロロシランを原料に用い、簡便な電気炉を使用することができるため、NaCl型炭化ケイ素を安価に製造することができる。
用途利用分野 高温半導体、フォトニック材料、研磨剤、構造用材料
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . 野田 哲二, 荒木 弘, 鈴木 裕, . NaCl型炭化ケイ素の製造方法. 特開2007-137751. 2007-06-07
  • C01B  31/36     

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