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プラズマ処理装置

シーズコード S110007227
掲載日 2011年12月21日
研究者
  • 松本 和憲
  • 竹林 雄二
技術名称 プラズマ処理装置
技術概要 本発明は、複数枚のウエハを所定の間隔で保持するボートと、このボートの周辺を円周状に囲むn枚の電極と、この電極へ位相が1/n周期ずつずれたn相交流電位を印加する対称多相交流電源を備えてなることを最も主要な特徴とする。図1、図2の具体例で示すと、12枚の電極1を12インチウエハ2の周囲から6mm離れた位置に円周状に30°づつずらして配置し、電極1の一端に取り付けた給電端子3を介して各電極1を位相が1/12周期ずつずれた12相交流電位を印加する対称多相交流電源に接続する。電極1は裏面をガラスで絶縁した幅75mm×長さ160mm×厚さ1mmのアルミ板で形成し、両端を図示しない支持部材を介して一対のアルミ側板5に固定する。ウエハ2はリングボート装着して13.5mm間隔で12枚取り付け、ウエハ支え6に支持して12枚の電極1に囲まれた円周内に固定する。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 複数枚のウエハを一括して処理するバッチ式のプラズマ処理装置では、ウエハ間隙を狭くすると一様なプラズマを生成することが困難になり、広くすると処理効率が落ちるという課題がある。本発明では、間隔の狭いウエハ間隙に対しても一様なプラズマを生成して複数枚のウエハを一括して大量かつ均一に処理できるバッチ式プラズマ処理装置を提供することを目的とする。
本発明は、n枚の電極で複数枚のウエハ周辺を囲み、各電極へ位相が1/n周期ずつずれたn相交流電位を印加するので、電極で囲まれた内部に電源周波数で回転するウエハ表面と平行な電界が一様に形成される。その結果、ウエハ間隙に時間平均的に一様なプラズマが生成され、複数枚のウエハ表面を同時かつ均一に処理できるようになる。
用途利用分野 プラズマ処理装置、半導体製造装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 富山県, . 松本 和憲, 竹林 雄二, . プラズマ処理装置. 特開2008-166418. 2008-07-17
  • H01L  21/3065   
  • H05H   1/24     
  • H01L  21/31     

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