TOP > 技術シーズ検索 > 有機分子の注入方法とその装置

有機分子の注入方法とその装置

シーズコード S110007416
掲載日 2011年12月27日
研究者
  • 後藤 真宏
  • ユーリー ピホッシュ
  • 笠原 章
  • 土佐 正弘
技術名称 有機分子の注入方法とその装置
技術概要 レーザー誘導性分子埋め込み方法は、有機分子を含む有機分子注入源に集光したレーザー光を照射し、光の進行方向あるいは進行反対方向に設置した基板の表面に有機分子を注入する。注入の領域は最大径数μm以下とする。注入領域を微小領域にするめ有機分子注入源は基板に対して凸になるように密接触させ、かつ、集光した光は、光波長回折限界の程度に集光させた光線とし、注入領域の径を制御する際に90μm以下の範囲で距離を制御する。有機分子注入源中の有機分子の濃度は、0.01~10重量%の範囲内が好ましく、0.1~6重量%の範囲内が更に好ましく、3~5重量%が更に好ましい。有機分子の濃度の制御は、成膜時の配合調整により最適に制御することが容易にできる。また、複数種類の有機分子注入源を用いることにより、一度の注入処理で1枚の基板上に複数種類の有機分子を用いた任意パターンの注入領域を形成することができる。さらに、最大径数μm以下の領域内に有機分子を注入するために、好ましくはパルスレーザーを光源とすることができる。他に、有機分子の注入装置および機能性材料もしくは機能性物の発明がある。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_2006-035963.GIF
研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ レーザー誘導性分子埋め込み法を用いて基板上に有機分子を注入する場合において、簡便かつ、生産性の良い方法で、最大径数μm以下の微小注入領域に高濃度の有機分子を注入するレーザー誘導性分子埋め込み方法および装置およびこれらの手段を用いて生産できる機能性材料もしくは機能性物品を提供する。
有機分子注入源を基板に対し凸状にして接触させることで、集光のビーム径を、0.1~3μmの範囲まで絞り込み、また、有機分子注入源と基板との間の距離を90μm以下で調整を行うことにより、最大径3μm以下の微小領域に、濃度が0.01~10重量%となる有機分子を注入できる。また、有機分子注入源を複数種類使用し、光源の条件を調整することにより、基板上に複数種類の有機分子が注入された領域を短時間かつ正確に形成することができる。また、微小な領域への有機分子の注入が可能となるため、電子デバイスの小型化や高集積化、高機能化、ディスプレイデバイスの小型化や高精細化、センサーの超高感度化、光スイッチングデバイスなどが可能となる。
用途利用分野 有機ELディスプレイ製造装置、電子デバイス製造装置、発光フレキシブルシート製造装置、テレビ画面製造装置、人工皮膚
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人物質・材料研究機構, . 後藤 真宏, ユーリー ピホッシュ, 笠原 章, 土佐 正弘, . 有機分子の注入方法とその装置. 特開2007-216085. 2007-08-30
  • B01J  19/12     
  • B01J   4/00     

PAGE TOP