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パターニングされた物質の製造方法

シーズコード S110007451
掲載日 2011年12月27日
研究者
  • 藪 浩
  • 下村 政嗣
  • 居城 邦治
  • 松尾 保孝
  • 山本 貞明
  • 田中 賢
技術名称 パターニングされた物質の製造方法
技術概要 図に示す構造(凸部直径1000nm×高さ1000nm、凸部間隔1000nm)のポリスチレンからなるナノピラー構造体を既存方法で作製する。直径9cmのシャーレに置いたナノピラー構造体Aの上からポリジメチルシロキサン(PDMS)と架橋触媒を10:1で混合したもの20gをキャストし、200℃で2時間架橋反応を行った後、ナノピラー構造体をベンゼンで溶解除去し、ネガ型のPDMS製鋳型を作製する。この鋳型全体をベンゼン中に1分間浸漬した後、鋳型を取り出して表面を乾燥させる。熱収縮性フィルムの上に作製した鋳型を置いて圧縮する。圧縮を1分間保持した後、鋳型を剥離してパターン化されたフィルムを回収する。作製したフィルムの表面構造を原子間力顕微鏡を用いて観察した後、フィルムをホットステージ上で90~95℃まで加熱して熱収縮させ、再び表面構造を観察すると、熱収縮前のフィルムでは、凸部頂部の直径1000nm、高さが820nm、凸部の間隔が1000nmのナノピラー構造が観察される。また熱収縮後のフィルムでは、凸部頂部の直径780nm、高さが750μm、凸部の間隔が690nmのナノピラー構造が観察される。
画像

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研究分野
  • 製品,半製品,利用
  • 細胞・組織培養法
展開可能なシーズ 従来のマイクロコンタクトプリンティング法やナノインプリント技術とは異なる、微細なパターンを形成し得る新たなパターニング技術を提供する。
パターニングされた種々の金属やポリマーを製造することができる。特に、熱収縮性ポリマーフィルムもしくは熱収縮性ポリマーシートを基にして、回折限界を超えたマイクロパターニングを有するポリマーフィルムもしくはポリマーシートを製造することができる。このようなフィルムもしくはシートは、光拡散フィルム等の光学フィルム、その中でも可視光の波長以下の構造が求められるモスアイ型の反射防止膜の製造に利用可能である。また、細胞培養の基板としても利用可能である。
用途利用分野 パターニング物質、光拡散フィルム、光学フィルム、モスアイ型反射防止膜、細胞培養基板
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人北海道大学, . 藪 浩, 下村 政嗣, 居城 邦治, 松尾 保孝, 山本 貞明, 田中 賢, . パターニングされた物質の製造方法. . 2009-04-30
  • B29C  59/02     
  • H01L  21/027    
  • G03F   7/20     
  • B29C  33/38     
  • B81C   3/00     

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