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光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー

シーズコード S110007502
掲載日 2011年12月28日
研究者
  • 高原 茂
  • 鈴木 昭太
技術名称 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー
技術概要 ピロメテン系色素からなる増感剤とオキシム系光酸発生剤を含み、光励起されたピロメテン系色素からなる増感剤からオキシム系光酸発生剤への電子移動によって上記オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンを発生させ、反応が開始されるフォトリソグラフィー材料を開発した。オキシム系光酸発生剤は、式で示されるフォトリソグラフィー材料である。
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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 酸素阻害の影響がなく、ネガおよびポジ型のリソグラフィー材料をつくれる自由度のある高感度光酸発生系による反応開始材料が求められていたが十分な感度をもつ光酸発生剤がなかった。この課題を解決する高感度増感光酸発生材料、およびこれを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニング、光リソグラフィーを提供する。
直接光励起では酸発生効率がそれほど高くないオキシム系酸発生剤が光増感反応による電子移動によりラジカルアニオンになることによって、ラジカルアニオンからの特異的な高効率な酸発生をすることを見出した。これを用いて高感度のリソグラフィー材料を得た。本材料は超強酸を発生する酸発生系よりも高感度が得られ、多くの応用分野で酸素阻害のない、より高感度リソグラフィーが得られる。
用途利用分野 光リソグラフィーによる半導体加工装置、配線用レジスト、スクリーン印刷材料、ドライフィルムレジスト
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 千葉大学, . 高原 茂, 鈴木 昭太, . 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー. 特開2007-269853. 2007-10-18
  • C09K   3/00     
  • C08F   2/50     
  • G03F   7/004    
  • G03F   7/028    
  • H01L  21/027    

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