TOP > 技術シーズ検索 > 極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法

極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法

シーズコード S120007567
掲載日 2012年1月4日
研究者
  • 窪寺 昌一
  • 加来 昌典
技術名称 極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法
技術概要 内部が排気されたチェンバー(2)と、チェンバー(2)内に設定されたプラズマ生成領域(2b)に導入されたスズを加熱、励起してプラズマを発生させるプラズマ発生装置(6)と、スズのプラズマから放出される極端紫外光(9)が導出される極端紫外光導出部(11)と、スズのプラズマから発生するスズ酸化物が付着した付着部(10a)に対して真空紫外光(15a)を照射する真空紫外光源装置(15)と、を備える。そして、真空紫外光(15a)により付着部(10a)に付着したスズ酸化物をスズに還元して除去する。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_2007-277388.gif
研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ リソグラフィー露光用光源用の極端紫外光(EUV)は、ターゲット媒質にプラズマ生成用のレーザー光を照射してプラズマを生成することにより放射される。スズ系金属をターゲットに使用する場合、デブリが大量に発生するため、除去が必要であるが、スズ酸化物の除去は困難だった。本発明では、スズを使用して極端紫外光を発生させる際に、スズ酸化物を十分に除去することを目的とする。
次世代半導体リソグラフィーの露光用光源として、スズを使用して極端紫外光を発生させる際に、スズ化合物、のなかで除去が困難であったスズ酸化物を真空紫外光で還元できるので、簡便な方法でスズ酸化物の除去が可能になる。
用途利用分野 極端紫外光源装置、ソグラフィー露光装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 宮崎大学, . 窪寺 昌一, 加来 昌典, . 極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法. 特開2009-105307. 2009-05-14
  • H01L  21/027    
  • G21K   1/00     
  • G21K   5/02     
  • H05G   2/00     

PAGE TOP