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電子ビーム露光装置

シーズコード S120007794
掲載日 2012年1月5日
研究者
  • 木村 建次郎
  • 小林 圭
  • 山田 啓文
  • 松重 和美
技術名称 電子ビーム露光装置
技術概要 本発明の電子ビーム露光装置は、二次元の光パターン(13)を発生するためのプロジェクター(8)と、入射された光パターン(13)に基づく電子ビームアレイを生成し、その電子ビームアレイを増幅し、増幅電子ビームアレイ(14)として出射するためのマイクロチャネルプレート(11)と、増幅電子ビームアレイ(14)を集束するための電子ビームレンズ部(12)とを有する。この構成では、パターン化された増幅電子ビームアレイにより、描画パターンを高分解能、高精度かつプログラマブルに描画して形成することができる。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 電子ビーム露光方法において、露光時間を短縮化するために、パターンを一括描画する二次元電子ビームによる一括露光方法が開発されている。しかし、電子ビームがメンブレンを通過する部分で著しく解像度が低下してしまうという課題があった。本発明では、電子ビームによる高精細な描画パターンを形成できる電子ビーム露光装置を提供すると共に、所望する二次元の描画パターンの形成を、二次元一括露光によって迅速に実現できて形成を低コスト化できる、電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。
電子ビーム露光装置は、電子ビームによる露光によって、より微細加工されて性能が向上した半導体素子を製造できる。また、電子ビーム露光装置は、露光を二次元パターンによる一括露光できるから、製造を低コスト化できる。
用途利用分野 電子ビーム露光装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人京都大学, . 木村 建次郎, 小林 圭, 山田 啓文, 松重 和美, . 電子ビーム露光装置. . 2008-12-25
  • H01L  21/027    
  • H01J  37/305    

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