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気体分離膜

シーズコード S120007865
掲載日 2012年1月10日
研究者
  • 永井 一清
  • 森里 敦
  • 野崎 貴司
技術名称 気体分離膜
技術概要 ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとの混合比は、ビニル基1molに対してヒドロシリル基が1molになるように調合し、さらにプラチナ錯体触媒をポリシロキサンの全使用量に対し200ppmの濃度で加えた後、イソオクタンを加えて10重量%溶液とする。この溶液に対してコーティング前に80℃で300秒間予備加熱を与える。加熱後すぐにイソオクタンを必要量添加し全体の濃度を5重量%あるいは2重量%とする。調製したコーティング溶液は、ポリスルホン製の多孔膜支持体に、塗布し、80℃にて15分間加熱乾燥を行う。加熱乾燥終了後、膜サンプルの酸素及び窒素透過性を測定する。図に示すようにいずれの架橋膜も酸素/窒素分離性の優れた膜として得られる。
画像

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thum_2009-149894.GIF
研究分野
  • 膜分離
展開可能なシーズ 多孔質支持体膜上にオルガノポリシロキサン架橋膜が設けられ、多孔質支持体膜の平均孔径が10nm以上250nm以下であり、オルガノポリシロキサン架橋膜が、ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとをヒドロシリル化触媒により反応させて形成した膜であり、オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、オルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上である、気体分離膜を提供する。
厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜を容易に製造することができるオルガノポリシロキサン架橋膜が得られる。
用途利用分野 気体分離膜、気体分離膜製造技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人明治大学, . 永井 一清, 森里 敦, 野崎 貴司, . 気体分離膜. 特開2009-208079. 2009-09-17
  • B01D  71/70     
  • B01D  69/10     
  • C08J   5/18     
  • C08J   3/24     
  • C08G  77/48     

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