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同軸磁化プラズマ生成装置

シーズコード S120008362
掲載日 2012年1月25日
研究者
  • 浅井 朋彦
  • 多米 貴裕
  • 岸 香織
技術名称 同軸磁化プラズマ生成装置
技術概要 スフェロマックプラズマを生成する同軸磁化プラズマ生成装置は、外部導体1と、外部導体1と同軸状に配置される内部導体2と、外部導体1と内部導体2との間にプラズマ生成ガスを供給するプラズマ生成ガス供給部3と、外部導体1と内部導体2との間にバイアス磁界を発生する電磁コイル4と、電源回路5とからなる。電源回路5は、外部導体1と内部導体2との間に連続パルス信号、例えば、デューティ比が変更される連続パルス信号を印加する。
画像

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研究分野
  • プラズマ生成・加熱
  • 固体デバイス製造技術一般
  • 医療用機器装置
展開可能なシーズ 高効率・高輝度なプラズマ生成を可能にし、さらに、電極の長寿命化、デブリによる窓の曇りや損傷の軽減を可能にする同軸磁化プラズマ生成装置を提供する。
この装置によれば、電源回路による連続パルス電圧や連続パルス電流の大きさに比べて、非常に高いエネルギのプラズマが長時間発光可能となるため、高効率・高輝度なプラズマ生成が可能となる。さらに、デューティ比を制御することで、電極の熱負荷を低くでき、電極が長寿命化し、また、電極の損傷が少ないためデブリによる窓の曇りや損傷も軽減可能となる。なお、閉じ込め磁場配位を有するプラズマを生成可能なため、容器壁との接触によるプラズマ温度の低下も低減できる。また、デューティ比を変化させることで、内部導体を削るようにしてプラズマ生成ガスに金属を混入させ、内部導体の金属のスペクトル線の輝度を高めることも可能である。また、対向配置型同軸磁化プラズマ生成装置とすれば、プラズマ温度を高めることで、より強くプラズマを生成可能である。
用途利用分野 次世代リソグラフィのためのEUV光源、医療・検査用のX線光源
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人日本大学, . 浅井 朋彦, 多米 貴裕, 岸 香織, . 同軸磁化プラズマ生成装置. 特開2010-050090. 2010-03-04
  • H05H   1/24     
  • H05H   1/46     

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